超临界水氧化：超临界水氧化技术(SCWO)是近年来兴起的一种新型高效的废水废物处理技术。超临界水氧化法利用水在超临界状态下(374.3℃，临界压力22.05MPa)的特性，使有机污染物和氧化剂(空气、O2和过氧化氢等)在超临界水中发生均相氧化反应，从而将其去除。褚旅云使用超临界水氧化法对去除高含量的印染废水的COD非常有效，去除率达到了99.8%，为GB8978-96规定的一级排放标准(100mg/L)以下。Sogut等[63]针对印染废水进行了SCWO的研究，在反应温度400～600℃、压力25Mpa、停留时间816s的条件范围内，TOC可以去除完全。超临界水氧化技术具有快速、高效的优点，是在处理难生化、有毒、难降解的有机废物时优势更为明显。但是，目前超临界水氧化技术存在着一些难题影响了其工业化的发展，相信在不久的将来，随着人们对超临界水氧化技术研究的深入，势必会得到越来越广泛的应用。具体联系污水宝或参见http://www.dowater.com更多相关技术文档。
辐射法：近年来，有人采用γ2辐射和电子束等手段对有机污水进行处理，尤其是对水中复杂有机物进行降解处理。高能技术处理废水的反应机理一般是：水在高能射线辐照下产生一系列高活性粒子HO·、H2O2、HO2，使有害物质降解。辐射法处理印染废水等难降解污水的特点是：有机物的去除率高、设备占地小、操作简便，但用来产生高能粒子的装置价格昂贵，技术要求高，而且该方法能耗较大，能量利用率不高，若要真正投入实际运行，还需进行大量的研究工作。
磁分离法：磁分离技术是借助磁场力的作用，对不同磁性的物质进行分离的一种物理分离方法。即将废水中微量粒磁化后再分离。印染废水中的磁性污染物，可直接利用高梯度磁分离器分离;对于非磁性污染物，可通过投加磁种和絮凝剂，使磁种和污染物缔合，然后利用高梯度磁分离方法除去。国外高梯度磁分离法处理印染废水已进入实用研究阶段。