配位剂提供孤对电子给金属离子，通过配位键形成配合物。被配位的金属已经失去简单离子的特性，在废水处理中难以沉淀分离。
以铜一氨配合物为例说明配位剂对含铜废水处理的影响。酸性镀铜是应用最广的电镀工艺之一。清洗废水中的铜以简单离子形式存在。向废水中加入氢氧化钠，调节pH值到9，溶解性的铜离子转化为不溶性的氢氧化铜，再经过固液分离即可达标。然而，在酸性镀铜废水中混入了氨水，铜离子会与氨结合生成铜一氨配合物。此时，加入氢氧化钠，调节pH值到9甚至更高，不会产生氢氧化铜沉淀。由于铜一氨配合物非常稳定，所以氨水的引入就成为铜离子超标的重要因素。类似的例子还有很多。如普通镀镍的废水容易处理，而中性镀镍的废水很难处理。又如酸性镀锌的废水容易处理，而铵盐镀锌的废水很难处理。由此可以推断：镀液中含有配位剂，废水处理难度就高。具体联系污水宝或参见http://www.dowater.com更多相关技术文档。
各种含配位剂的废水的处理难度不尽相同，这取决于配合物的稳定常数。稳定常数越小，配合物越稳定，废水也越难处理。可以从化学手册中查找配合物的稳定常数，用于判断废水处理的难易程度。镍一柠檬酸配合物的稳定常数为10-4;3，而镍一EDTA配合物的稳定常数为10-18;6，后者小于前者。这说明镍一EDTA配合物比镍一柠檬酸配合物更加稳定，废水更难处理。镍一氰配合物的稳定常数为10-30’3，非常稳定。这就提醒我们应该避免含镍废水与含氰废水互混，否则镍和氰都可能超标。