申请日2015.07.15
公开(公告)日2016.02.10
IPC分类号C02F3/12
摘要
本发明提供一种散气装置及水处理装置及其运转方法，能够防止散气孔堵塞，并且能够通过增加送风量而扩大对于膜单体的清洗范围，且能够提高清洗效果。散气装置(1)包括：主管(2)，从气体供给装置供给气体;以及支管(3)，与主管(2)连接。支管(3)的一端与主管(2)连接，并且在上侧沿支管(3)的长度方向形成有多个第1散气孔(8)，在下侧具有形成有第2散气孔(10)的管状体(9)。
权利要求书
1.一种散气装置，包括：主管，该主管被从气体供给装置供给气体;以及支管，该支管与所述主管连接，所述散气装置的特征在于，
所述支管的一端与所述主管连接，并且在所述支管的上侧沿该支管的长度方向形成有多个第1散气孔，在所述支管的下侧具有形成有第2散气孔的管状体。
2.如权利要求1所述的散气装置，其特征在于，
所述第1散气孔形成为向上，所述第2散气孔形成为向下。
3.如权利要求1或2所述的散气装置，其特征在于，
所述管状体的第2散气孔配置在相邻配置的所述第1散气孔之间。
4.如权利要求1～3中任一项所述的散气装置，其特征在于，
所述支管的另一端侧具有开放口。
5.如权利要求4所述的散气装置，其特征在于，
所述开放口配置在所述第2散气孔的下部开口的下方。
6.如权利要求4或5所述的散气装置，其特征在于，
所述第2散气孔的开口面积相对于所述开放口的开口面积为1/6～1/2。
7.如权利要求1～6中任一项所述的散气装置，其特征在于，
所述管状体的数量是2根以上、10根以下。
8.一种水处理装置，其特征在于，具有：
水槽;
配置在所述水槽内的膜组件单元;
配置在所述膜组件单元下方的权利要求1～7中任一项所述的散气装置;以及
将气体供给到所述散气装置的气体供给装置。
9.如权利要求8所述的水处理装置，其特征在于，
所述水处理装置具有气体供给控制构件，该气体供给控制构件将从所述气体供给装置供给到所述散气装置的气体的供给量切换成第1规定量或第2规定量，所述第1规定量是从所述第1散气孔产生气泡而不会从所述第2散气孔产生气泡的量;所述第2规定量是从所述第 1散气孔产生气泡并且也从所述第2散气孔产生气泡的量。
10.一种水处理装置的运转方法，是权利要求8或9所述的水处理装置的运转方法，其特征在于，
将从所述气体供给装置供给到所述散气装置的气体的供给量切换成第1规定量或第2规定量，所述第1规定量是从所述第1散气孔产生气泡而不会从所述第2散气孔产生气泡的量;所述第2规定量是从所述第1散气孔产生气泡并且也从所述第2散气孔产生气泡的量。
说明书
散气装置及水处理装置及其运转方法
技术领域
本发明涉及散气装置、具有散气装置的水处理装置及其运转方法。
背景技术
一般在膜分离活性污泥法(MBR)中，将具有形成有散气孔的散气管的散气装置，配置在具有膜组件单元的水处理装置(例如活性污泥处理装置、膜清洗装置、膜分离装置和排水处理装置等)的水槽内，抑制膜组件单元的膜堵塞。即，将散气装置配置在膜组件单元的下方，使空气等散气用气体从该散气装置喷出到水槽内，对被处理水进行曝气，并利用该散气用气体的气泡上升而使附着在膜组件单元的膜单体上的污泥等剥离，由此进行膜的物理清洗而抑制膜堵塞。
对于使空气从散气装置喷出的散气管的散气孔，已知有专利文献1～专利文献4所公开的方式。
专利文献1：日本特开2010-119976号公报
专利文献2：日本特开2001-170677号公报
专利文献3：日本特开平9-225272号公报
专利文献4：日本特开2002-177745号公报
然而，对于所述散气管的散气孔，由于此处容易堵塞污泥等，因此，优选的是将孔径做大以使其难以产生堵塞。另外，散气孔的孔径越大，越容易产生(喷出)大的气泡，对膜单体的清洗效果(清洗力)就高。另外，当将散气孔的间隔形成得窄时，由于可均匀地对膜单体整体进行清洗，因此，希望将散气孔的间隔形成得窄，消除散气孔与散气孔之间不产生气泡流的空间。
但是，在将散气孔的孔径做大并将散气孔的间隔做窄的情况下，在散气孔间由于影响压损差，因此，若不将许多空气进行送风，则不能从全部的散气孔均匀产生气泡。在全部的散气孔不会均匀地产生气泡的情况下，膜单体整体难以得到均匀清洗，污泥等容易堆积在膜单体上而产生膜堵塞。
要将散气孔做大并将散气孔的间隔做窄，均匀产生气泡，则必须如前所述那样增加送风量，但是，由于能量使用量增多，因此，MBR的运转成本增大。也可考虑这样的技术，以上述条件为基础进行间歇送风，由此减少散气的能量使用量，但在该情况下，在散气停止时，不能充分清洗膜。
为了解决上述那种问题，而考虑这样的技术：通常以较少的送风量进行散气，并且，在必要时或定期地比通常多地进行送风，由此可清洗通常未被清洗的部分。但是，专利文献1～4 的散气装置是按进行一定量的送风、间歇送风的设想而设计的，即使在必要时或定期地比通常多地进行送风，也不能期盼清洗范围的扩大和其所带来的清洗效果的增大。
即，专利文献1的散气孔配置成仅向上，专利文献2的散气孔配置成仅向下，专利文献 3的散气孔配置成仅横向，因此，即使相对于通常而在必要时或定期时增加散气量，也只是从相同的散气孔增加散气量，不能期盼散气范围的扩大和其所带来的清洗效果的增大。
另外，由于专利文献2、专利文献3中散气孔的孔径大，因此，虽然产生大的气泡，但也始终需要许多的空气量以进行均匀散气，能量使用量变多。另外，即使增加散气量，也不能在散气孔间产生新的气泡流。
另外，在如专利文献4那样散气管整体具有小径的散气孔的情况下，虽然散气范围比专利文献1～专利文献3更有利，但由于散气的气泡变小，因此，清洗效果低，散气孔也容易堵塞。
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是鉴于上述问题而做成的，其目的在于，提供一种散气装置及水处理装置及其运转方法，通过防止散气孔堵塞，并增加送风量，能够扩大对于膜单体的清洗范围，提高清洗效果。
用于解决课题的手段
本发明具有如下方式。
[1]一种散气装置，包括：主管，该主管被从气体供给装置供给气体;以及支管，该支管与所述主管连接，所述支管的一端与所述主管连接，并且在所述支管的上侧沿该支管的长度方向形成有多个第1散气孔，在所述支管的下侧具有形成有第2散气孔的管状体。
[2]如上述[1]所述的散气装置，其中，所述第1散气孔形成为向上，所述第2散气孔形成为向下。
[3]如上述[1]、[2]所述的散气装置，其中，所述管状体的第2散气孔配置在相邻配置的所述第1散气孔之间。
[4]如上述[1]～[3]中任一项所述的散气装置，其中，所述支管的另一端侧具有开放口。
[5]如上述[4]所述的散气装置，其中，所述开放口配置在所述第2散气孔的下部开口的下方。
[6]如上述[4]或[5]所述的散气装置，其中，所述第2散气孔的开口面积相对于所述开放口的开口面积为1/6～1/2。
[7]如上述[1]～[6]中任一项所述的散气装置，其中，所述管状体的数量是2根以上、10根以下。
[8]一种水处理装置，具有：水槽;配置在所述水槽内的膜组件单元;配置在所述膜组件单元的下方的所述[1]～[7]中任一项所述的散气装置;以及将气体供给到所述散气装置的气体供给装置。
[9]如上述[8]所述的水处理装置，其中，所述水处理装置具有气体供给控制构件，该气体供给控制构件将从所述气体供给装置供给到所述散气装置的气体的供给量切换成第1规定量或第2规定量，所述第1规定量是从所述第1散气孔产生气泡而不会从所述第2散气孔产生气泡的量;所述第2规定量是从所述第1散气孔产生气泡并且也使所述第2散气孔产生气泡的量。
[10]一种水处理装置的运转方法，是上述[8]或[9]所述的水处理装置的运转方法，将从所述气体供给装置供给到所述散气装置的气体的供给量切换成第1规定量或第2规定量，所述第1规定量是从所述第1散气孔产生气泡而不会从所述第2散气孔产生气泡的量;所述第2 规定量是从所述第1散气孔产生气泡并且也使所述第2散气孔产生气泡的量。
发明的效果
根据本发明的散气装置，由于在支管的上侧沿该支管的长度方向形成多个第1散气孔，且在下侧具有形成有第2散气孔的管状体，因此，例如通过将第1散气孔和第2散气孔的空间做大，可防止这些散气孔产生堵塞。另外，能够仅在将送风量增多到规定量以上时从第2 散气孔产生气泡，因此，在必要时或在定期时进行比通常多的送风，由此，也可清洗通常未被清洗的部分。于是，能够通过增加送风量而扩大对于膜单体的清洗范围，能够提高清洗效果。此外，通过仅在必要时或在定期时提升送风量来扩大清洗范围地进行运转，不必始终提升送风量，因此可在通常进行节能运转。
根据本发明的水处理装置及其运转方法，防止散气孔的堵塞，进一步利用清洗效果提高后的所述散气装置来良好地清洗膜组件单元，由此，能够稳定而高效地进行运转。