申请日2016.08.24
公开(公告)日2017.01.18
IPC分类号C02F1/56; C02F1/54; C02F1/52; C02F1/28; C02F101/30; C02F101/20
摘要
一种硅片加工废水用净化剂，涉及硅材料加工技术领域，由以下重量份的原料制成：蒙脱石15‑25份、熟石膏3‑5份、明矾15‑25份、氯化钙3‑5份、膨润土6‑8份、柠檬酸2‑4份、单宁6‑8份、大豆蛋白10‑20份、活性炭5‑7份、海藻酸8‑10份、硫酸亚铁2‑4份、氢氧化钠5‑7份、聚合氯化铝5‑7份、聚丙烯酰胺5‑7份、改性淀粉15‑25份、明胶80‑120份、磁土35‑45份。本发明的有益效果为：本发明采用的原材料丰富廉价，制作工艺简便，适用于硅片切割废水水体除污，对水体中的有机有害物、重金属消除快速彻底，靠物理化学反应转换，即是清除剂也是固化剂，从根本上控制消除水体污染物，效果显著。
权利要求书
1.一种硅片加工废水用净化剂，其特征在于，由以下重量份的原料制成：
蒙脱石15-25份、熟石膏3-5份、明矾15-25份、氯化钙3-5份、膨润土6-8份、柠檬酸2-4份、单宁6-8份、大豆蛋白10-20份、活性炭5-7份、海藻酸8-10份、硫酸亚铁2-4份、氢氧化钠5-7份、聚合氯化铝5-7份、聚丙烯酰胺5-7份、改性淀粉15-25份、明胶80-120份、磁土35-45份。
2.根据权利要求1所述的一种硅片加工废水用净化剂，其特征在于，各原料的优选分量为：蒙脱石20份、熟石膏4份、明矾20份、氯化钙4份、膨润土7份、柠檬酸3份、单宁7份、大豆蛋白15份、活性炭6份、海藻酸9份、硫酸亚铁3份、氢氧化钠6份、聚合氯化铝6份、聚丙烯酰胺6份、改性淀粉20份、明胶100份、磁土40份。
3.根据权利要求1所述的一种硅片加工废水用净化剂，其特征在于：所述的磁土是通过采用粘土与磁粉按照10:1量复配后，研磨制成，颗粒直径为60-70um。
4.根据权利要求1所述的一种硅片加工废水用净化剂，其特征在于：所述的改性淀粉由以下分量的原料组成：淀粉100份、六偏磷酸钠3份、水35份、磷酸4份、氢氧化钠15份、硼砂2.5、钠基硼润土20份;
其制备方法为：将淀粉投入到搅拌溶器中，将六偏磷酸钠加入到容器中，搅拌混合，再加入20份水到淀粉中，搅拌5分钟，静置溶胀分散40分钟，再将磷酸、水5份，投入到搅拌容器中，搅拌均匀，静置30分钟，再将氢氧化钠、硼砂和剩下的10份水投入其中，搅拌均匀，静置45分钟，加入钠基硼润土后，催干，即可制得改性淀粉。
5.制备上述权利要求1或2中硅片加工废水用净化剂的方法，其特征在于，包括以下制备步骤：
1)取用一球磨机，将原料中的蒙脱石、熟石膏、明矾、氯化钙、膨润土、柠檬酸、单宁、大豆蛋白、活性炭、海藻酸、硫酸亚铁、氢氧化钠、聚合氯化铝、聚丙烯酰胺和改性淀粉放入其中，然后开启球磨直至颗粒细度在20-30um时，停止研磨，得到混合料，备用;
2)将原料中的明胶，放入锅中熬化，然后趁热将步骤1中的原料加入其 中，进行混合后，在兑水搅拌后，烘干造粒，得到颗粒直径为0.2-0.3mm的丸体，备用;
3)取用一滚筒搅拌机，然后加热至温度为45-55℃，将原料中的磁土加入其中，然后上述步骤2中的物料加入其中，开启搅拌，直至磁土充分的附着在丸体表壁，即可。
说明书
一种硅片加工废水用净化剂及其制备方法
技术领域
本发明涉及硅材料加工技术领域，具体涉及一种硅片加工废水用净化剂及其制备方法。
背景技术
硅材料，是重要的半导体材料，化学元素符号Si，电子工业上使用的硅应具有高纯度和优良的电学和机械等性能，硅是产量最大、应用最广的半导体材料，它的产量和用量标志着一个国家的电子工业水平，单晶硅在太阳能电池中的应用，高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在光伏技术和微小型半导体逆变器技术飞速发展的今天，利用硅单晶所生产的太阳能电池可以直接把太阳能转化为光能，实现了迈向绿色能源革命的开始。
硅片是硅材料存在的一种物理形式，在正常的应用中，硅片，是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力，科学技术的发展不断推动着半导体的发展，自动化和计算机等技术发展，使硅片这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度，然而硅片在加工时，不同的工艺节点都会使得硅片加工出现瑕疵。
硅片一般都是通过相应的硅碇进行切片而成，由于在切割时，应用大量的切削液，并且还会使用一些污染性的化学试剂，进行辅助，因此硅片在切割后，必须要进行相应的清洗，才能保证硅片的洁净，从而保证其相应的物理性能，因此硅片清洗时硅片加工中，不可或缺的一项步骤，因此硅片加工企业会存在大量的加工废水，此类废水如果直接排放，势必会造成环境污染因此必须经过相应的处理后，才能进行排放，但是目前技术范畴中，并没有硅片废水的专用处理剂，因此不能充分的净化废水。
发明内容：
本发明所要解决的技术问题在于提供一种配方合理，净化彻底，成本低下，使用效果明显的硅片加工废水用净化剂及其制备方法。
本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现：
一种硅片加工废水用净化剂，其特征在于，由以下重量份的原料制成：
蒙脱石15-25份、熟石膏3-5份、明矾15-25份、氯化钙3-5份、膨润土6-8份、柠檬酸2-4份、单宁6-8份、大豆蛋白10-20份、活性炭5-7份、海藻酸8-10份、硫酸亚铁2-4份、氢氧化钠5-7份、聚合氯化铝5-7份、聚丙烯酰胺5-7份、改性淀粉15-25份、明胶80-120份、磁土35-45份。
各原料的优选分量为：
蒙脱石20份、熟石膏4份、明矾20份、氯化钙4份、膨润土7份、柠檬酸3份、单宁7份、大豆蛋白15份、活性炭6份、海藻酸9份、硫酸亚铁3份、氢氧化钠6份、聚合氯化铝6份、聚丙烯酰胺6份、改性淀粉20份、明胶100份、磁土40份。
所述的磁土是通过采用粘土与磁粉按照10:1量复配后，研磨制成，颗粒直径为60-70um;
所述的改性淀粉由以下分量的原料组成：淀粉100份、六偏磷酸钠3份、水35份、磷酸4份、氢氧化钠15份、硼砂2.5、钠基硼润土20份;
其制备方法为：将淀粉投入到搅拌溶器中，将六偏磷酸钠加入到容器中，搅拌混合，再加入20份水到淀粉中，搅拌5分钟，静置溶胀分散40分钟，再将磷酸、水5份，投入到搅拌容器中，搅拌均匀，静置30分钟，再将氢氧化钠、硼砂和剩下的10份水投入其中，搅拌均匀，静置45分钟，加入钠基硼润土后，催干，即可制得改性淀粉。
上述净化剂的制备方法为：
1)取用一球磨机，将原料中的蒙脱石、熟石膏、明矾、氯化钙、膨润土、柠檬酸、单宁、大豆蛋白、活性炭、海藻酸、硫酸亚铁、氢氧化钠、聚合氯化铝、聚丙烯酰胺和改性淀粉放入其中，然后开启球磨直至颗粒细度在20-30um时，停止研磨，得到混合料，备用;
2)将原料中的明胶，放入锅中熬化，然后趁热将步骤1中的原料加入其中，进行混合后，在兑水搅拌后，烘干造粒，得到颗粒直径为0.2-0.3mm的丸体，备用;
3)取用一滚筒搅拌机，然后加热至温度为45-55℃，将原料中的磁土加入其中，然后上述步骤2中的物料加入其中，开启搅拌，直至磁土充分的附着在丸体表壁，即可。
本品在使用时，按照每立方污水采用本品1公斤，直接撒入水体中，加以搅拌后，再静置30-40min后，过滤即可。
本品采用明胶将具有分解和絮凝作用的物料进行合并后，形成丸体，然后在丸体表面配合使用磁土，当本品进入废水水体后，直接位于丸体表壁的磁土预先工作，将废水中的金属颗粒进行吸附然后直接落至水体，当丸体表面磁土稀释完毕后，内部与明胶混合的分解物质及絮凝物质，会对水体内的有害物质进行分解并絮凝，最后统一落入水底，将有害物质直接与水分离，最后过滤后的水即可，放心排放。
本发明的有益效果为：本发明采用的原材料丰富廉价，制作工艺简便，适用于硅片切割废水水体除污，对水体中的有机有害物、重金属消除快速彻底，靠物理化学反应转换，即是清除剂也是固化剂，从根本上控制消除水体污染物，效果显著。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例，进一步阐述本发明。
实施例1
称取：蒙脱石15kg、熟石膏3kg、明矾15kg、氯化钙3kg、膨润土6kg、柠檬酸2kg、单宁6kg、大豆蛋白10kg、活性炭5kg、海藻酸8kg、硫酸亚铁2kg、氢氧化钠5kg、聚合氯化铝5kg、聚丙烯酰胺5kg、改性淀粉15kg、明胶80kg、磁土35kg。
实施例2
称取：蒙脱石20kg、熟石膏4kg、明矾20kg、氯化钙4kg、膨润土7kg、柠檬酸3kg、单宁7kg、大豆蛋白15kg、活性炭6kg、海藻酸9kg、硫酸亚铁3kg、氢氧化钠6kg、聚合氯化铝6kg、聚丙烯酰胺6kg、改性淀粉20kg、明胶100kg、磁土40kg。
制备上述实施例1或2的方法为：
1)取用一球磨机，将原料中的蒙脱石、熟石膏、明矾、氯化钙、膨润土、柠檬酸、单宁、大豆蛋白、活性炭、海藻酸、硫酸亚铁、氢氧化钠、聚合氯化铝、聚丙烯酰胺和改性淀粉放入其中，然后开启球磨直至颗粒细度在20-30um时，停止研磨，得到混合料，备用;
2)将原料中的明胶，放入锅中熬化，然后趁热将步骤1中的原料加入其中，进行混合后，在兑水搅拌后，烘干造粒，得到颗粒直径为0.2-0.3mm的丸体，备用;
3)取用一滚筒搅拌机，然后加热至温度为45-55℃，将原料中的磁土加入其中，然后上述步骤2中的物料加入其中，开启搅拌，直至磁土充分的附着在丸体表壁，即可。
本品在使用时，按照每立方污水采用本品1公斤，直接撒入水体中，加以搅拌后，再静置30-40min后，过滤即可。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。