申请日2016.12.01
公开(公告)日2017.05.24
IPC分类号C02F9/14
摘要
本发明公开一种废水处理方法及处理装置，其包括水解酸化阶段、氧化处理阶段、沉淀处理阶段、膜处理阶段、其与现有技术相比，将氧化处理阶段与膜处理阶段分开进行，且在膜处理阶段之前设置了沉淀处理阶段，如此设置，使经由氧化处理阶段的废水进行沉淀处理之后，再进入膜处理阶段。在沉淀处理阶段，废水中的活性泥等可沉淀物会得到沉淀，则减少了进入膜处理阶段废水中的可沉淀物，沉淀物对膜造成的污染也相对降低，进而可以使膜的清理周期延长，减轻工作人员的维护工作。
权利要求书
1.一种废水处理方法，其特征在于，所述废水处理方法包括以下步骤：
S1、水解酸化：对废水进行收集，将废水导入厌氧池中进行水解酸化反应，将废水中的大分子有机物分解成小分子有机物;
S2、氧化处理：将经过水解酸化处理的废水导入好氧池中进行氧化反应，将小分子有机物氧化分解;
S3、沉淀处理：将经过氧化处理的废水导入沉淀池中进行沉淀，使废水中的悬浮物沉淀至池底;
S4、膜处理：将沉淀后废水的上清液由沉淀池导入膜处理池中进行膜过滤，最终得到排放达标的废水。
2.根据权利要求1所述废水处理方法，其特征在于，所述废水在步骤S1所述的水解酸化阶段的停留时间为10-30h。
3.根据权利要求1所述废水处理方法，其特征在于，步骤S1所述的水解酸化阶段中，在所述厌氧池中加入活性炭，对废水中的大分子有机物进行吸附。
4.根据权利要求3所述废水处理方法，其特征在于，步骤S3所述的沉淀处理阶段中，沉淀池底部沉积的沉淀物能够返回至厌氧池中继续进行水解酸化反应。
5.根据权利要求3所述废水处理方法，其特征在于，步骤S3所述的沉淀处理阶段中，沉淀池底部沉积的沉淀物能够返回至好氧池中继续进行氧化反应。
6.一种废水处理系统，其特征在于，所述废水处理系统包括依次连接的厌氧池、好氧池、沉淀池、过滤池;其中，所述沉淀池的底部设有污泥抽送泵，所述污泥抽送泵连接沉淀物回流通道，所述沉淀物回流通道的回流端连接至所述厌氧池或好氧池。
7.根据权利要求6所述废水处理系统，其特征在于，所述厌氧池中加入有活性炭。
说明书
废水处理方法及处理装置
技术领域
本发明涉及废水处理技术，尤其是涉及一种废水处理方法及处理装置。
背景技术
随着我国对环境要求的不断提高，对废水的排放水质要求也越来越高，这就要在排放生产废水之前必须对生产废水进行处理。
在现有的废水处理技术中，通常废水的处理方法分为以下几个阶段：厌氧反应阶段、接触氧化反应阶段，其中，在厌氧反应阶段，利用厌氧池中的厌氧细菌将废水中的大分子有机物分解成小分子有机物，经过厌氧反应阶段的出水为一次处理水;在接触氧化反应阶段，利用好氧池中的好氧细菌将一次处理水中的小分子有机物进一步分解，同时在好氧反应阶段通过设置的膜分离设备对活性泥进行截流。经过这几个步骤之后，排水已经达到了国家的排放标准，可以进行排放。
为了保证一次处理水中的小分子有机物被充分分解，就要求好氧池中的活性污泥的含量高，以确保好氧细菌的含量高，但是高含量的活性污泥会对置于氧化池中的膜分离器的膜造成污染，为了保证好氧池出水的水质，就需要对膜进行清洗。因为活性泥的含量高，就需要频繁的对膜进行清洗，加重了工作人员的维护工作。
因此，如何设计一种废水处理方法，可以延长膜的清洗周期，减轻工作人员的维护工作是本领域技术人员需要解决的问题。
发明内容
本发明的目的在于克服上述技术不足，提出一种可以延长膜的清洗周期，减轻工作人员的维护工作的废水处理方法及处理装置。
为达到上述技术目的，本发明的技术方案提供一种废水处理方法，所述废水处理方法包括以下步骤：
S1、水解酸化：对废水进行收集，将废水导入厌氧池中进行水解酸化反应，将废水中的大分子有机物分解成小分子有机物;
S2、氧化处理：将经过水解酸化处理的废水导入好氧池中进行氧化反应，将小分子有机物氧化分解;
S3、沉淀处理：将经过氧化处理的废水导入沉淀池中进行沉淀，使废水中的悬浮物沉淀至池底;
S4、膜处理：将沉淀后废水的上清液由沉淀池导入膜处理池中进行膜过滤，最终得到排放达标的废水。
优选的，所述废水在步骤S1所述的水解酸化阶段的停留时间为10‐30h。
优选的，步骤S1所述的水解酸化阶段中，在所述厌氧池中加入活性炭，对废水中的大分子有机物进行吸附。
优选的，步骤S3所述的沉淀处理阶段中，沉淀池底部沉积的沉淀物能够返回至厌氧池中继续进行水解酸化反应。
优选的，步骤S3所述的沉淀处理阶段中，沉淀池底部沉积的沉淀物能够返回至好氧池中继续进行氧化反应。
一种废水处理系统，所述废水处理系统包括依次连接的厌氧池、好氧池、沉淀池、过滤池;其中，所述沉淀池的底部设有污泥抽送泵，所述污泥抽送泵连接沉淀物回流通道，所述沉淀物回流通道的回流端连接至所述厌氧池或好氧池。
优选的，所述厌氧池中加入有活性炭。
本发明所述废水处理方法及处理装置，其与现有技术相比，将氧化处理阶段与膜处理阶段分开进行，且在膜处理阶段之前设置了沉淀处理阶段，如此设置，使经由氧化处理阶段的废水进行沉淀处理之后，再进入膜处理阶段。在沉淀处理阶段，废水中的活性泥等可沉淀物会得到沉淀，则减少了进入膜处理阶段废水中的可沉淀物，沉淀物对膜造成的污染也相对降低，进而可以使膜的清理周期延长，减轻工作人员的维护工作。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明的实施例提供了一种废水处理方法，所述废水处理方法包括以下步骤：
S1、水解酸化：对废水进行收集，将废水导入厌氧池中进行水解酸化反应，利用厌氧池中的厌氧细菌将废水中的大分子有机物分解成小分子有机物;具体的，所述废水在步骤S1所述的水解酸化阶段的停留时间为10‐30h，优选12h以上;
S2、氧化处理：将经过水解酸化处理的废水导入好氧池中进行氧化反应，利用好氧细菌将小分子有机物进行氧化分解;
S3、沉淀处理：将经过氧化处理的废水导入沉淀池中进行沉淀，使废水中的悬浮物沉淀至池底;
S4、膜处理：将沉淀后废水的上清液由沉淀池导入膜处理池中进行膜过滤，使废水得到进一步的净化，最终得到排放达标的废水。
与现有技术相比，将氧化处理阶段与膜处理阶段分开进行，且在膜处理阶段之前设置了沉淀处理阶段，如此设置，使经由氧化处理阶段的废水进行沉淀处理之后，再进入膜处理阶段。在沉淀处理阶段，废水中的活性泥等可沉淀物会得到沉淀，则减少了进入膜处理阶段废水中的可沉淀物，沉淀物对膜造成的污染也相对降低，进而可以使膜的清理周期延长，减轻工作人员的维护工作。
为了保证沉淀池的可用容积，所述沉淀池中的沉淀物经由污泥泵进行排放，将沉淀池内的沉淀物排出，避免因为池内沉淀物过多堆积而致使沉淀池的可用容积减少，同时也可以防止由于沉淀物量过多后，造成沉淀效果降低，使沉淀池的出水水质变差。
工作人员根据实际情况，每月进行一次沉淀排放，在沉淀物进行排放时，沉淀处理阶段是持续进行的。当然，也可以根据实际情况，延长或缩短沉淀物排放处理工艺的周期，如每两个月或每半个月进行一次。
进一步的，可以将所述沉淀池排放的沉淀物送入厌氧池，使沉淀物中的有机物继续进行水解酸化反应，或将沉淀物送入好氧池中使有机物继续进行氧化反应，如此可以使沉淀物中的有机物在厌氧池或好氧池中重新的进行分解，从而可以提高厌氧池或好氧池的生化效果。同时沉淀物中的活性泥含有微生物，因此沉淀物的回流还能弥补厌氧池或好氧池的活性泥损失，增加厌氧池或好氧池的微生物数量。
为增加有机物与厌氧细菌的接触面积，还可以在所述厌氧池中加入活性炭，利用活性炭的吸附作用，对废水中的大分子有机物进行吸附，增大有机物与厌氧细菌的接触面积，有利于有机物的分解，降低水中有机物含量。
同时吸附着有机物的活性炭可以随着废水进入氧化处理阶段、沉淀处理阶段以及膜处理阶段。在氧化处理阶段，由于活性炭的吸附作用，便于好氧细菌与小分子有机物相接触，使得小分子有机物得到充分分解;在沉淀处理阶段，由于活性炭的使用，微生物、活性炭以及沉淀物形成颗粒，可以加快沉淀速度，提高沉淀池的沉淀效率;在膜处理阶段，膜可以截留活性炭，并利用活性炭的吸附作用除去废水的颜色，提高排水的水质。而被活性炭吸附的未分解有机物在沉淀池沉淀后，经沉淀物回流工艺再次进入到厌氧池或好氧池，使活性炭吸附的有机物得到进一步的分解。优选的，活性炭为粉末状活性炭，与同体积其他形式的活性炭相比，采用粉末状活性炭，可以扩大与有机物的接触面积，便于对有机物的吸附，有利于微生物分解有机物。
一种废水处理系统，所述废水处理系统包括依次连接的厌氧池、好氧池、沉淀池、过滤池;其中，所述厌氧池中加入有活性炭，所述沉淀池的底部设有污泥抽送泵，所述污泥抽送泵连接沉淀物回流通道，所述沉淀物回流通道的回流端连接至所述厌氧池或好氧池。
当所述沉淀物通过沉淀物回流通道回流至厌氧池中时，使沉淀物中的有机物在厌氧池中重新进行水解酸化反应，从而可以提高厌氧池的生化效果。当所述沉淀物通过沉淀物回流通道回流至好氧池中时，使沉淀物中的有机物在好氧池中重新进行氧化反应，从而可以提高好氧池的生化效果，同时还能弥补厌氧池或好氧池的活性泥损失，增加厌氧池或好氧池的微生物数量。
本发明所述废水处理方法及处理装置，其与现有技术相比，将氧化处理阶段与膜处理阶段分开进行，且在膜处理阶段之前设置了沉淀处理阶段，如此设置，使经由氧化处理阶段的废水进行沉淀处理之后，再进入膜处理阶段。在沉淀处理阶段，废水中的活性泥等可沉淀物会得到沉淀，则减少了进入膜处理阶段废水中的可沉淀物，沉淀物对膜造成的污染也相对降低，进而可以使膜的清理周期延长，减轻工作人员的维护工作。
以上所述本发明的具体实施方式，并不构成对本发明保护范围的限定。任何根据本发明的技术构思所做出的各种其他相应的改变与变形，均应包含在本发明权利要求的保护范围内。