复合电解液生产废水深度除氟除磷处理技术

发布时间:2024-10-31 14:47:47

公布日:2023.12.29

申请日:2023.11.08

分类号:C02F9/00(2023.01)I;C02F1/56(2023.01)N;C02F1/58(2023.01)N;C02F1/66(2023.01)N;C02F101/10(2006.01)N;C02F101/14(2006.01)N

摘要

本发明涉及一种复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,它包括:S1、向废水中投加浓H2SO4HNO3,同时投加复合硅,复合硅为硅酸盐化合物和二氧化硅中的至少一种,提高温度;S2、向S1废水中加入氢氧化钙悬浊液、除磷剂和除氟剂;S3、加入PAM絮凝剂,泵送至板框压榨,排出沉淀物,清液流入后续工艺。突破了锂电池电解液生产废水深度除氟、除磷预处理的技术壁垒,可以达到氟小于10ppm、磷小于2ppm的预处理工艺目的,预处理后进入生化处理系统进行COD、氨氮、总氮的深度去除。

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权利要求书

1.一种复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于,它包括:S1、向废水中投加浓H2SO4HNO3,同时投加复合硅,复合硅为硅酸盐化合物和二氧化硅中的至少一种,提高温度;S2、向S1废水中加入氢氧化钙悬浊液、除磷剂和除氟剂;S3、加入PAM絮凝剂,泵送至板框压榨,排出沉淀物,清液流入后续工艺。

2.根据权利要求1所述的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于:S1中废水温度为93-97℃,S2中废水温度为95℃,S3中废水温度为25℃。

3.根据权利要求1所述的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于:S1向废水投加H2SO4的浓度是98%,或者投加HNO3的浓度是30%,投加比例均为与废水体积比1.5100S2向废水投加氢氧化钙使pH值上升至9-11

4.根据权利要求1所述的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于:S1中反应停留时间为6-8hS2反应停留时间为2hS3反应停留时间为0.5h

5.根据权利要求1所述的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于:采用将蒸汽通入废水中的方式对废水进行加热和/或使用蒙乃尔合金换热器加热。

6.根据权利要求1所述的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于:S1/S2/S3中采用搅拌循环流化形式对废水进行处理。

7.根据权利要求1所述的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于:S1S2中是完全混合液进入下一步处理程序,S3是上清液进入下一步处理程序。

8.根据权利要求1所述的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于:S1S2S3中还均配备有废气处理工序,收集后的废气进行氧化喷淋、碱喷淋以及生物除臭的综合处理。

9.根据权利要求1所述的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于:S1S2S3是采用串联连续流流化床、序批式流化床或者反应釜对废水进行处理。

10.根据权利要求1所述的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,其特征在于:S1中还向废水中投加镧系金属作为反应的催化剂。

发明内容

本发明的目的是要提供一种复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,解决了锂电池复合电解液生产废水除氟、除磷的问题。

为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:本发明提供了一种复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,它包括:S1、向废水中投加浓H2SO4HNO3,同时投加复合硅,复合硅为硅酸盐化合物和二氧化硅中的至少一种,提高温度;S2、向S1废水中加入氢氧化钙悬浊液、除磷剂和除氟剂;S3、加入PAM絮凝剂,泵送至板框压榨,排出沉淀物,清液流入后续工艺。

优选地,S1中废水温度为93-97℃,S2中废水温度为95℃,S3中废水温度为25℃。

优选地,S1向废水投加H2SO4的浓度是98%,或者投加HNO3的浓度是30%,投加比例均为与废水体积比1.5100S2向废水投加氢氧化钙使pH值上升至9-11

优选地,S1中反应停留时间为6-8hS2反应停留时间为2hS3反应停留时间为0.5h

优选地,采用将蒸汽通入废水中的方式对废水进行加热和/或使用蒙乃尔合金换热器加热。

优选地,S1/S2/S3中采用搅拌循环流化形式对废水进行处理。

优选地,S1S2中是完全混合液进入下一步处理程序,S3是上清液进入下一步处理程序。

优选地,S1S2S3中还均配备有废气处理工序,收集后的废气进行氧化喷淋、碱喷淋以及生物除臭的综合处理。

优选地,S1S2S3是采用串联连续流流化床、序批式流化床或者反应釜对废水进行处理。

优选地,S1中还向废水中投加镧系金属作为反应的催化剂。

由于上述技术方案运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:本发明的复合电解液生产废水深度除氟除磷处理方法,突破了锂电池电解液生产废水深度除氟、除磷预处理的技术壁垒,可以达到氟小于10ppm、磷小于2ppm的预处理工艺目的,预处理后进入生化处理系统进行COD、氨氮、总氮的深度去除。

(发明人:尹岩;杜甫义;阚俊;梅益清;陈茂林)

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