公布日：2022.08.02
申请日：2022.06.10
分类号：C02F9/04(2006.01)I;C02F1/66(2006.01)N;C02F1/44(2006.01)N;C02F1/78(2006.01)N;C02F101/30(2006.01)N;C02F103/16(2006.01)N;
C02F103/34(2006.01)N;C02F103/36(2006.01)N;C02F101/34(2006.01)N;C02F103/04(2006.01)N
摘要
本发明提供了一种基于臭氧和陶瓷膜的高难废水处理方法，属于污水处理技术领域。本发明通过陶瓷膜高效截留颗粒物，解决了预处理混凝加药产生污泥量大的问题，通过臭氧氧化将大分子有机物氧化成小分子有机物，且陶瓷膜催化臭氧生成羟基自由基，提高有机物去除效率，同时提高了对膜污染的控制效果。
权利要求书
1.一种基于臭氧和陶瓷膜的高难废水处理方法，其特征在于，包括以下步骤：将高难废水经废水调节池进行水质水量调节，实现出水均匀；将废水调节池出水经泵入pH调节池对废水pH值进行调节；将经pH调节池调节后的出水引入原位臭氧/陶瓷膜系统，经处理后得到产水和浓水；所述产水经后端处理回收利用，所述浓水经污泥池沉淀后，得到废水返回至废水调节池进行循环利用。
2.根据权利要求1所述的高难废水处理方法，其特征在于，所述高难废水包括锂电三元材料生产废水、制药废水、电镀废水、印染废水、半导体废水、化工废水或酚类废水。
3.根据权利要求1所述的高难废水处理方法，其特征在于，所述原位臭氧/陶瓷膜系统中臭氧由臭氧发生器产生，出气口与陶瓷膜进水口连接，经陶瓷膜进水口，臭氧进入陶瓷膜内部。
4.根据权利要求3所述的高难废水处理方法，其特征在于，所述原位臭氧/陶瓷膜系统中陶瓷膜包括管式陶瓷膜、板式陶瓷膜和大直径的柱状陶瓷膜。
5.根据权利要求4所述的高难废水处理方法，其特征在于，所述陶瓷膜的孔径为0.8nm-0.1μm。
6.根据权利要求4所述的高难废水处理方法，其特征在于，所述陶瓷膜的零点电位为7.5～8.5。
7.根据权利要求1所述的高难废水处理方法，其特征在于，所述废水调节池包括搅拌装置、提升泵、流量计和液位计。
8.根据权利要求1所述的高难废水处理方法，其特征在于，所述pH调节池中采用氢氧化钠或硫酸进行调节。
9.根据权利要求8所述的高难废水处理方法，其特征在于，经pH调节池后，pH为7.5～8.5。
10.根据权利要求1所述的高难废水处理方法，其特征在于，所述后端处理包括生化处理系统或纯水系统。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种基于臭氧和陶瓷膜的高难废水处理方法。本发明通过陶瓷膜高效截留颗粒物，解决了预处理混凝加药产生污泥量大的问题，通过臭氧氧化将大分子有机物氧化成小分子有机物，且陶瓷膜催化臭氧生成羟基自由基，提高了对有机物的去除效率，同时提高了对膜污染的控制效果。
本发明是通过以下技术方案实现的：
一种基于臭氧和陶瓷膜的高难废水处理方法，包括以下步骤：
将高难废水经过废水调节池进行水质水量调节，实现出水均匀；
将废水调节池出水经泵入pH调节池对废水pH值进行调节；
将经pH调节池调节后的出水引入原位臭氧/陶瓷膜系统，经处理后得到产水和浓水；
所述产水经后端处理回收利用，所述浓水经污泥池沉淀后，得到废水返回至废水调节池进行循环利用。
优选地，所述高难废水包括锂电三元材料生产废水、制药废水、电镀废水、印染废水、半导体废水、化工废水或酚类废水。
优选地，所述原位臭氧/陶瓷膜系统中臭氧由臭氧发生器产生，出气口与陶瓷膜进水口连接，经陶瓷膜进水口，臭氧进入陶瓷膜内部。
优选地，所述原位臭氧/陶瓷膜系统中陶瓷膜包括管式陶瓷膜、板式陶瓷膜和大直径的柱状陶瓷膜。
优选地，所述陶瓷膜的孔径为0.8nm-0.1μm。
优选地，所述陶瓷膜的零点电位为7.5～8.5。
优选地，所述废水调节池包括搅拌装置、提升泵、流量计和液位计。
优选地，所述pH调节池中采用氢氧化钠或硫酸进行调节。
优选地，经pH调节池后，pH为7.5～8.5。
优选地，所述后端处理包括生化处理系统或纯水系统
有益技术效果：
本发明将传统工艺中的加药沉淀池取消，减少了污泥量，废水经过调节后，直接进入臭氧原位处理陶瓷膜过滤系统，利用陶瓷膜高效截留颗粒物，解决了预处理混凝加药产生污泥量大，减少了污泥处理的费用；陶瓷膜所含氧化铝、氧化锰等金属元素，可以催化臭氧产生羟基自由基，通过臭氧氧化将大分子有机物氧化成小分子有机物；陶瓷膜的多孔结构，可以起到微反应器的作用，增加了液体反应物和固体催化剂之间的有效接触面积，进一步促进羟基自由基的产生，羟基自由基可以氧化难降解的有机物，臭氧本身进入陶瓷后可以形成紊流状态，对膜表面起到冲刷作用，可以有效的减少膜污染，既提高了废水的可生化性，又提高了陶瓷膜的使用寿命。
（发明人：唐叶红;刘景光;王延宗;刘光博）