申请日2018.02.01
公开(公告)日2019.01.25
IPC分类号C02F1/00; B01J19/28
摘要
提供了一种具有杂质去除功能的水处理系统。水处理系统安装在管道的一部分中，流体流动经过水处理系统，并且水处理系统包括：连接在相对的管道之间的壳体;以及壳体中的回转式反应器，回转式反应器通过沿着管道移动的流体而旋转以处理流体。沿着壳体的内表面从壳体的入口朝向位于回转式反应器的下部的轴承凹部形成有至少一个杂质引导凹部，环状的杂质容纳凹部设置在壳体内表面的下侧中心部分处，其中，杂质容纳凹部在轴承凹部的外部与轴承凹部形成同心圆，并且杂质容纳凹部与杂质引导凹部连接，且在壳体的下侧中心部分形成排流口，其中，排流口的入口通过连接凹部与杂质容纳凹部连接。
权利要求书
1.一种具有杂质去除功能的水处理系统，所述水处理系统安装在管道的一部分中，流体流动经过该水处理系统，并且所述水处理系统包括：壳体，其连接在相对的管道之间;以及所述壳体中的回转式反应器，所述回转式反应器通过沿着管道移动的所述流体而旋转以处理所述流体，
其中，沿着所述壳体的内表面从所述壳体的入口朝向位于所述回转式反应器的下部的轴承凹部形成有至少一个杂质引导凹部，
环状的杂质容纳凹部设置在所述壳体的内表面的下侧中心部分处，其中，所述杂质容纳凹部在所述轴承凹部的外部与所述轴承凹部形成同心圆，并且所述杂质容纳凹部与所述杂质引导凹部连接，并且
在所述壳体的下侧中心部分形成有排流口，其中，所述排流口的入口通过连接凹部与所述杂质容纳凹部连接。
2.根据权利要求1所述的水处理系统，其中，所述回转式反应器在其外周边具有翼部或凹部，且移动通过所述壳体的中心的流体被引导至所述杂质容纳凹部，并且在所述杂质容纳凹部中捕获所述流体中的杂质。
3.根据权利要求2所述的水 处理系统，其中，所述翼部或凹部沿着所述回转式反应器的外周边以连续或不连续的螺旋的形式设置。
4.根据权利要求2所述的水处理系统，其中，所述翼部在其表面包括多个通孔。
5.根据权利要求1所述的水处理系统，其中，所述壳体包括：
观察孔，其形成于所述壳体的前表面中，所述观察孔具有预定的大小;
安装部，其从所述观察孔的外周边向外突出，且所述安装部在所述安装部的内周边表面上包括挂钩台阶;
观察窗，其插入到所述安装部的内周边表面，其中，所述观察窗的外周边的底部表面安装在所述挂钩台阶上;
盖子，其通过联接构件联接到所述安装部上，所述盖子处于盖子的底部表面接触所述安装部的突起的前边界的状态，且在所述盖子的中心处具有通孔;以及
密封件，其设置在所述安装部的所述前边界和所述盖子的所述底部表面之间，且在所述密封件的中心处具有孔。
6.根据权利要求5所述的水处理系统，其中，在所述观察窗的内表面或相对的表面上形成有涂层，并且透过所述涂层判别所述壳体的内部状态。
7.根据权利要求6所述的水处理系统，其中，所述涂层具有与所述观察窗的大小对应的大小，且所述涂层包括依次彼此联接的：
光学硅附接层;
聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)层;
硬涂层;以及
疏油涂层或超疏水涂层。
8.根据权利要求6所述的水处理系统，其中，所述涂层具有与所述观察窗的大小对应的大小，且所述涂层包括依次彼此联接的：
光学硅附接层;
钢化玻璃薄膜层;
硬涂层;以及
疏油涂层或超疏水涂层。
9.根据权利要求1所述的水处理系统，其中，所述回转式反应器内包含电气石、贵阳石、土卫七、赭石、脉斑岩、甲壳类动物、锗和木炭中的一种。
10.根据权利要求1所述的水处理系统，其中，所述回转式反应器包括锌、镁或铜中的一种。
说明书
具有杂质去除功能的水处理系统
相关申请的交叉引用
本申请要求享有2017年10月20日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请NO.10-2017-0136326的优先权，其全部内容通过引用并入本文中。
技术领域
一个或多个实施例涉及具有杂质去除功能的水处理系统，该水处理系统能够有效地将流经包括回转式反应器的水处理系统的流体中的杂质排出。
背景技术
通常，在净水厂中将水净化并在泵站中将净化水泵送以后，水管道向房屋的水龙头稳定地供应具有优良水质的水。
在刚刚最初安装好水管道之后，在刚刚管护好水管道之后，以及在刚刚更换老旧管道之后，会难以供应具有优良水质的水。
另外，当由于水管道长期使用在管道中发生的腐蚀而产生水垢时，当管道由于氧化腐蚀而老化时，当聚集了沉积物时，或当细菌微生物长时间附着并固定时，传输面积降低并且水受到严重污染。因此，诸如净水器或热水饮水机的可能会成为经济负担的附加净水装置得到广泛使用。
另外，为了向发电厂供应品质稳定的水，将水处理系统部分地应用到管道上以去除水垢等。
至于防腐蚀，Zn=Zn2++2e-、Fe2O3(铁锈)+1/2e-=Fe3O4(磁铁矿)、Fe3O4+5/2e-(Zn电子)=Fe+(稳态铁)，即，铁锈与电子结合并转变为不被腐蚀的磁铁矿(Fe3O4)以防止腐蚀，并最终减少为稳态铁(Fe+)以去除存在的铁锈。
同样，至于水垢的去除，CaCO3(水垢)+CO2+H2O=Ca(HCO3)2(碳酸氢钙)，即水垢颗粒并不是以固态的碳酸钙(CaCO3)的形式被去除，而是被转变成能够溶于水的碳酸氢钙(Ca(HCO3)2)并去除。
但是，在根据相关技术的水处理系统中，当流体从设置有回转式反应器的管道入口通过回转式反应器排放至出口时，相对较轻的杂质通过回转式反应器得以处理，但是重的杂质经过回转式反应器的下方部分排放至出口而没有通过回转式反应器，从而降低了水处理的效率。
实用新型内容
一个或多个实施例包括具有杂质去除功能的水处理系统，其中，水处理系统具有这样的结构，即经过壳体的沉积杂质被引导排放至壳体的外部，其中，壳体以内部建立有回转式反应器的状态设置在管道之间，并且因此提高了管理水处理的效率且可以稳定水质。
另外的方面将在下面的描述中部分论述，且部分将从说明书中显而易见，或者可以通过实施所呈现的实施例而了解。
根据一个或多个实施例，一种具有杂质去除功能的水处理系统，该水处理系统安装在管道的一部分中，流体流动经过该水处理系统，并且该水处理系统包括：壳体，其连接在相对的管道之间;以及壳体中的回转式反应器，该回转式反应器通过沿着管道移动的流体而旋转以处理流体，其中，沿着壳体的内表面从壳体的入口朝向位于回转式反应器的下部的轴承凹部形成有至少一个杂质引导凹部，环状的杂质容纳凹部设置在壳体内表面的下侧中心部分处，其中，该杂质容纳凹部在轴承凹部的外部与轴承凹部形成同心圆，并且杂质容纳凹部与杂质引导凹部连接，且在壳体的下侧中心部分形成排流口，其中，排流口的入口通过连接凹部与杂质容纳凹部连接。
回转式反应器在其外周边可以具有翼部或凹部，且通过壳体的中心的流体被引导至杂质容纳凹部，并且在杂质容纳凹部中捕获流体中的杂质。
翼部或凹部可以沿着回转式反应器的外周边以连续或不连续的螺旋的形式设置。
翼部可以在其表面包括多个通孔。
壳体可以包括：观察孔，其形成于壳体前表面中，观察孔具有预定的大小;安装部，其从观察孔的外周边向外突出，且安装部在其内周边表面上包括挂钩台阶;观察窗，其插入到安装部的内周边表面，其中，观察窗的外周边的底部表面安装在挂钩台阶上;盖子，其通过联接构件联接到安装部，盖子处于盖子的底部表面接触安装部的突起的前边界的状态，且盖子在其中心处具有通孔;以及密封件，其设置在安装部的前边界和盖子的底部表面之间，且密封件在其中心具有孔。
可以在观察窗的内表面或相对的表面上形成涂层，并且可以透过涂层判别壳体的内部状态。
涂层可以具有与观察窗的大小对应的大小，且该涂层可以包括依次彼此联接的光学硅附接层、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)层、硬涂层以及疏油涂层或超疏水涂层。
涂层可以具有与观察窗的大小对应的大小，且该涂层可以包括依次彼此联接的光学硅附接层、钢化玻璃薄膜层、硬涂层以及疏油涂层或超疏水涂层。
回转式反应器内可以包含电气石、贵阳石(kiyoseki stone)、土卫七、赭石、脉斑岩、甲壳类动物、锗和木炭中的一种。
回转式反应器可以包括锌、镁或铜中的一种。