申请日2012.03.13
公开(公告)日2013.12.11
IPC分类号C02F1/44; B01D61/02; C02F1/42; B01D61/58; B01D61/14
摘要
本发明涉及一种光致抗蚀剂显影废水的处理方法，其使用RO装置，无须用碱剂来中和RO透过水，可防止或者抑制因粘泥引起的RO膜的阻塞，且可获得良好水质的RO膜透过水。其无须对光致抗蚀剂显影废水进行pH值调整，在与阳离子交换树脂接触后，通过MF膜装置等进行除浊处理，接着向逆渗透膜装置通水，获得膜透过水。
权利要求书
1.一种光致抗蚀剂显影废水的处理方法，其特征在于，其在使光致抗蚀剂 显影废水与阳离子交换树脂接触后，进行除浊处理，接着向逆渗透膜装置通 水，获得膜透过水。
2.如权利要求1所述的光致抗蚀剂显影废水的处理方法，其中，无须进行 用于降低pH值的pH值调整处理，使光致抗蚀剂显影废水与阳离子交换树脂 接触。
3.如权利要求1或2所述的光致抗蚀剂显影废水的处理方法，其中，光致 抗蚀剂是在pH值为11以下时不溶的物质。
4.如权利要求1～3中任一项所述的光致抗蚀剂显影废水的处理方法，其 中，除浊装置是超滤膜。
5.如权利要求1～4中任一项所述的光致抗蚀剂显影废水的处理方法，其 中，在与阳离子交换树脂接触后，且在除浊处理前，进行生物处理。
6.如权利要求5所述的光致抗蚀剂显影废水的处理方法，其中，使用流动 床载体或者摇动型固定床载体，进行上述生物处理。
说明书
光致抗蚀剂显影废水的处理方法
技术领域
本发明涉及一种光致抗蚀剂(photo resist)显影废水的处理方法，尤其是涉 及一种使用逆渗透膜装置(RO装置)的处理方法。
背景技术
为制造半导体器件、液晶显示器、印刷基板等电子部件等时，于晶片 (wafer)等基板上形成光致抗蚀剂的被膜，利用图案掩模(pattern mask)照 射光等，接着，利用显影液溶解不需要的光致抗蚀剂，进行显影，进而进行 蚀刻等处理，然后，剥离基板上的不溶性的光致抗蚀剂膜。光致抗蚀剂，分 为曝光部分为可溶性的正型光致抗蚀剂和曝光部分为不溶性的负型光致抗蚀 剂。作为正型光致抗蚀剂的显影液，主要有碱性显影液。作为负型光致抗蚀 剂的显影液，主要为有机溶剂系显影液，但也有使用碱性显影液者。
作为上述碱性显影液，使用例如氢氧化四烷基铵(Tetra alkyl ammonium hydroxide，TAAH)，尤其是使用氢氧化四甲基铵(Tetra methyl ammonium hydroxide，TMAH)。自该显影步骤或者显影后的清洗步骤所排出的废水(光 致抗蚀剂显影废水)中，通常分别含有几十至20000ppm左右的四烷基铵离 子，以及浓度通常为10～1000ppm左右的作为抗蚀剂使用的醌二叠氮 (quinonediazido)和苯酚酚醛清漆树脂(phenol novolac)树脂的混合物或者 缩合物(光分解型光致抗蚀剂)等的各种源自感光性树脂的抗蚀剂剥离物。
在专利文献1中记载了一种方法，其是在光致抗蚀剂显影废液中添加酸， 使pH值降低至2～6析出光致抗蚀剂后，使用RO膜浓缩四烷基铵离子并且 除去析出物，并对浓缩液进行离子交换来精制，回收TAAH。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2002-253931号公报
发明内容
[发明要解决的课题]
在上述专利文献1的光致抗蚀剂显影废水的处理方法中，在光致抗蚀剂 显影废水中添加酸，使光致抗蚀剂不溶解，并向RO装置供给，膜分离为含 有析出物及TAAH的浓缩水和透过水。该以往的方法中，存在有以下问题。
(ⅰ)在光致抗蚀剂显影废水中添加酸来调节pH值至2～6，因此，必 须用碱对RO透过水进行中和，必须有碱剂(アルカリ剤)。
(ⅱ)光致抗蚀剂显影废水中的TAAH浓度高，因此，易于在RO膜上 产生粘泥闭塞。
(ⅲ)若为了防止粘泥(slime)闭塞而在RO装置上添加粘泥防止剂， 则会于浓缩水中混入粘泥防止剂，从而难以从浓缩水中回收TAAH。因此， 难以利用粘泥防止剂来防止RO膜闭塞。
(ⅳ)由于废水中的TAAH浓度高，TAAH的一部分透过RO膜流出至 透过水中。因此，RO透过水的处理水质低。
本发明的目的在于，提供一种解决了上述以往的问题的光致抗蚀剂显影 废水的处理方法，其使用RO装置，无须用碱剂来中和RO透过水，可防止 或者抑制因粘泥引起的RO膜的阻塞，且可获得良好水质的RO膜透过水。
[解决课题的方法]
本发明的光致抗蚀剂显影废水的处理方法中，在使光致抗蚀剂显影废水 与阳离子交换树脂接触后，进行除浊处理，接着向逆渗透膜装置进行通水， 获得膜透过水。
也可无须进行用于降低pH值的pH值调整处理，而使上述光致抗蚀剂 显影废水与阳离子交换树脂接触。
也可在使上述光致抗蚀剂显影废水与阳离子交换树脂接触后，且在除浊 处理前，进行生物处理。
生物处理槽优选是流动床载体或者摇动型固定床载体的载体方式。
[发明效果]
本发明中，首先使光致抗蚀剂显影废水与阳离子交换树脂接触，将该废 水中的TMAH等的TAAH吸附于该阳离子交换树脂。通过从该废水中吸附 分离TAAH，降低阳离子交换后的水的pH值，使光致抗蚀剂析出。通过除 浊处理来除去析出的光致抗蚀剂，将除浊处理水向RO装置供给。进而，将 该RO装置透过水作为处理水取出。对于浓缩水，利用浓缩水处理装置进行 处理。
如此，向RO装置供给已除去TAAH及光致抗蚀剂后的水，因此，流入 RO装置的TOC(总有机碳：Total Organic Carbon)成分浓度变低，可防止 或者抑制RO膜上的粘泥产生。
此外，RO供水中的TAAH浓度较低，因此RO透过水中也完全或者几 乎没有泄漏TAAH，RO透过水的水质良好。再者，在通常的情形下，上述 阳离子交换树脂的处理水的pH值为5～8左右，无须进行碱剂中和。
可通过将吸附有四烷基铵离子(TAA+)的阳离子交换树脂进行再生处 理，来回收TAA+。
可通过在使光致抗蚀剂与阳离子交换树脂接触后，且在除浊处理前，进 行生物处理，来分解溶解性有机物，提高RO透过水的水质。
可通过将生物处理槽设为流动床载体或者摇动型固定床载体的载体方 式，来防止由于光致抗蚀剂析出物所导致的闭塞。