申请日2012.09.19
公开(公告)日2013.01.09
IPC分类号C02F1/58; C02F1/28
申请(专利权)人常州大学;
摘要
本发明提供一种同时处理印染废水和化工有机废水的方法，步骤如下：分析印染废水中阴离子染料的量，加入水滑石，然后加入化工有机废水，搅拌，沉淀分离，废水即可达标排放。本发明的优点是：(1)利用印染废水中的阴离子染料，将加入到水中的水滑石在处理该废水的同时制成有机水滑石，并且同时化工有机废水中的有机物被吸附到水滑石层间，将污染物得以去除，废水得以净化。(2)分离后得到的水滑石还可以用于处理相应的有机废水。(3)该工艺显著降低了这两类废水处理的成本，易于推广使用。
权利要求书
1.一种同时处理印染废水和化工有机废水的方法，其特征在于：步骤 如下：
分析印染废水中阴离子染料的量，加入水滑石，然后加入化工有机废 水，搅拌，沉淀分离，废水即可达标排放。
2.根据权利要求1所述的同时处理印染废水和化工有机废水的方法， 其特征在于：所述的水滑石为50~100目的水滑石，印染废水中水滑石加入 量为每毫摩尔阴离子染料加入0.8~1.6g。
3.根据权利要求1所述的同时处理印染废水和化工有机废水的方法， 其特征在于：所述的化工有机废水与印染废水按体积比为1:1~1:3混合。
4.根据权利要求1所述的同时处理印染废水和化工有机废水的方法， 其特征在于：所述的搅拌为持续搅拌2~3h。
说明书
一种同时处理印染废水和化工有机废水的方法
技术领域
本发明涉及环境污染控制新技术的开发，尤其涉及一直同时处理印染废水 和化工有机废水的方法。
背景技术
合成染料具有复杂的芳香烃分子结构，种类繁多，难以生物降解。某些染 料或其降解产物具有强烈的致癌、致畸、致突变效应，因而染料污染的水体处 理已成为有待解决的难题之一。据报道，商业染料约有1万种，每年染料的总 产量为60万吨，我国年产量已达15万吨，生产过程中大约有10%～20%的染料 会直接随水排入环境。染料废水往往具有色度高、毒性大等特点。
通常用物理、化学或生物方法如混凝沉淀、化学氧化、离子交换、超膜滤、 光催化氧化、微生物吸附降解等处理染料废水，然而，这些技术对废水中色度 的去除效果不太明显，并且处理费用高，处理废水的范围较窄。随着经济的高 速发展，化工产品生产过程对环境的污染加剧，对人类健康的危害也日益普遍 和严重，其中特别是精细化工产品(如制药、染料、日化等)生产过程中排出的有 机物质，大多都是结构复杂、有毒有害和生物难以降解的物质。因此，化工废 水处理的难度较大。化工废水的基本特征为极高的COD、高盐度、对微生物有 毒性，是典型的难降解废水，是目前水处理技术方面的研究重点和热点。化工 废水的特征分析如下：(1)水质成分复杂，副产物多，反应原料常为溶剂类物 质或环状结构的化合物，增加了废水的处理难度;(2)废水中污染物含量高， 这是由于原料反应不完全和原料、或生产中使用的大量溶剂介质进入了废水体 系所引起的;(3)有毒有害物质多，精细化工废水中有许多有机污染物对微生 物是有毒有害的，如卤素化合物、硝基化合物、具有杀菌作用的分散剂或表面 活性剂等;(4)生物难降解物质多，B/C比低，可生化性差;(5)废水色度高。 化工废水是一种比较难处理的废水。
层状双羟基复合金属氧化物(Layered Double Hydroxides，简称LDH)，又 称水滑石，是一类重要的无机功能材料。其独特的层状结构及层板元素和层间 阴离子的可调变性受到人们的广泛关注，经离子交换向层间引入新的客体阴离 子可使层状结构和组成产生相应的变化，因而可以制备一大类具有特殊性质的 功能材料。水滑石材料属于阴离子型层状化合物。层状化合物是指具有层状结 构、层间离子具有可交换性的一类化合物，利用层状化合物主体在强极性分子 作用下所具有的可插层性和层间离子的可交换性，将一些功能性客体物质引入 层间空隙并将层板距离撑开从而形成层柱化合物。
水滑石化学结构通式为：[M2+1-xM3+x(OH)2]x+[(An-)x/n·mH2O]，其中M2+为Mg2+，Ni2+，Mn2+，Zn2+，Ca2+，Fe2+，Cu2+等二价金属阴离子;M3+为 Al3+，Cr3+，Fe3+，Co3+等三价金属阴离子;An-为阴离子，如CO32-，NO3-， Cl-，OH-，SO42-，PO43-，C6H4(COO)22-等无机和有机离子以及络合离子，当 层间无机阴离子不同，水滑石的层间距不同，同时在水滑石吸附污染物之后， 层间距也会增大，以容纳更多的污染物。
发明内容
本发明要解决的技术问题是：克服现有技术中处理化工有机废水和印染废 水的不足，提供一种同时处理印染废水和化工有机废水的方法。
为解决上述技术问题本发明采用的技术方案是：一种同时处理印染废水和 化工有机废水的方法，步骤如下：
分析印染废水中阴离子染料的量，加入水滑石，然后加入化工有机废水， 搅拌，沉淀分离，废水即可达标排放。
所述的水滑石为50~100目的水滑石，根据分析的印染废水中阴离子染料的 量，印染废水中水滑石加入量为每毫摩尔阴离子染料加入0.8~1.6g。
根据化工有机废水的COD浓度，所述的化工有机废水与印染废水按体积比 为1:1~1:3混合。
所述的搅拌为持续搅拌2~3h。
所述的水滑石可以是市售的商品，也可以根据现有技术制备，其制备技术是 总所周知的。水滑石化学结构通式为：[M2+1-xM3+x(OH)2]x+[(An-)x/n·mH2O]， 其中M2+为Mg2+，Ni2+，Mn2+，Zn2+，Ca2+，Fe2+，Cu2+等二价金属阳离子 中的任一种;M3+为Al3+，Cr3+，Fe3+，Co3+等三价金属阳离子中的任一种; An-为阴离子，如CO32-，NO3-，Cl-，OH-，SO42-，PO43-等无机离子中的任一 种;x=0.5~0.15;M2+/M3+=1~5。
本发明的有益效果是：
(1)利用印染废水中的阴离子染料，将加入到水中的水滑石在处理该废水 的同时制成有机水滑石，并且同时化工有机废水中的有机物被吸附到水滑石层 间，将污染物得以去除，废水得以净化。
(2)分离后得到的水滑石还可以用于处理相应的有机废水。
(3)该工艺显著降低了这两类废水处理的成本，易于推广使用。