申请日2014.02.25
公开(公告)日2014.12.24
IPC分类号B01J20/22; C02F1/28; B01J20/30
摘要
本发明提供选择性优异的吸附剂。实施方式的吸附剂是在表面具备具有双齿氮螯合物官能团的配体的无机多孔质体，在红外吸收光谱的1375cm-1以上1400cm-1以下附近观测到的源自配体的峰的半峰全宽为5cm-1以上50cm-1以下。
权利要求书
1.吸附剂，其是在表面具备具有双齿氮螯合物官能团的配体的无 机多孔质体，
在红外吸收光谱的1375cm-1以上1400cm-1以下附近观测到的源自 所述配体的峰的半峰全宽为5cm-1以上50cm-1以下。
2.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述配体具有乙二胺结 构。
3.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述配体在吸附剂中含 有4wt%以上30wt%以下。
4.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述无机多孔质体的粒 径为30μm～400μm。
5.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述无机多孔质体的细 孔径为3.0nm～9.0nm。
6.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述无机多孔质体为硅 胶。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的吸附剂，其中，在半径的球体状区域内存在所述配体配对的四个氮。
8.吸附剂的制造方法，其具有：
使金属离子与具有双齿氮螯合物官能团的硅烷偶联剂的螯合物配 位键合的工序、
将配位键合了所述金属离子的硅烷偶联剂向硅胶表面进行修饰的 工序、以及
将所述配位键合的金属离子从所述被修饰的载体去除的工序。
9.根据权利要求8所述的吸附剂的制造方法，其中，所述硅烷偶 联剂相对于所述金属离子为1.5摩尔当量以上2.3摩尔当量的比率，
通过将所述硅烷偶联剂和所述金属离子的盐进行混合而形成配位 键合。
10.水处理系统，其具有：
吸附装置，具备吸附剂，所述吸附剂是在表面具备具有双齿氮螯 合物官能团的配体的无机多孔质体，在红外吸收光谱的1375cm-1以上 1400cm-1以下附近观测到的源自所述配体的峰的半峰全宽为5cm-1以 上50cm-1以下;
供应装置，向吸附装置供应含有金属离子的被处理介质;
排出装置，从所述吸附装置排出所述被处理介质;
测定装置，设于所述吸附装置的供应侧或排出侧的至少一方的， 用于测定所述被处理介质中的金属离子的含量;以及
控制装置，在基于来自所述测定装置的信息而求得的值达到事先 设定的值时，用于减少从所述供应装置向吸附装置供应的被处理介质 的供应量。
11.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述配体具有乙 二胺结构。
12.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述配体在吸附 剂中含有4wt%以上30wt%以下。
13.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述无机多孔质 体的粒径为30μm～400μm。
14.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述无机多孔质 体的细孔径为3.0nm～9.0nm。
15.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述无机多孔质 体为硅胶。
16.根据权利要求10～15中任一项所述的水处理系统，其中，在 半径的球体状区域内存在所述配体配对的四个氮。
17.水处理用罐，其具备吸附剂，所述吸附剂是在表面具备具有 双齿氮螯合物官能团的配体的无机多孔质体，在红外吸收光谱的 1375cm-1以上1400cm-1以下附近观测到的源自所述配体的峰的半峰全 宽为5cm-1以上50cm-1以下。
说明书
吸附剂、吸附剂的制造方法、水处理系统及水处理罐
技术领域
实施方式涉及吸附剂、吸附剂的制造方法、水处理系统及水处理 罐。
背景技术
金属长期以来多用于产业上，由于其大多是有害的，因此，因被 污染的工厂排水，过去曾经引起各种各样的公害。近年来，金属虽然 被去除至极低浓度，但其去除技术大部分是凝集沉淀处理，金属被污 泥化后进行填埋处置。金属如果被排放是有害的，但如果被回收的话， 变为有价值的物质也不少。回收溶液中含有的金属的方法可举出沉淀 分离法、电解法、溶剂提取法、离子交换树脂法、螯合物树脂法等， 排水的重金属处理经常使用可处理至极低浓度的螯合物树脂法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特许第3481617号
发明内容
发明所要解决的课题
实施方式提供具有高选择性的吸附剂。
用于解决课题的手段
实施方式的吸附剂是在表面具备具有双齿氮螯合物官能团的配体 的无机多孔质体，在红外吸收光谱的1375cm-1以上1400cm-1以下附近 观测到的源自双齿配体的峰的半峰全宽为5cm-1以上50cm-1以下。