申请日2014.05.28
公开(公告)日2014.10.01
IPC分类号C02F9/04
摘要
一种砷化镓晶片生产加工废水的除砷装置，包括：一除砷箱的出水口与清水池的进水口连接;除砷箱的底部设有排泥口，除砷箱内设有搅拌机。本实用新型的除砷装置可以有将解决公知技术中化学沉淀法处理砷化镓晶片生产加工废水时絮凝沉降效果不稳定、除砷效率受限的问题。
权利要求书
1.一种砷化镓晶片生产加工废水的除砷装置，其特征是，包括：
除砷箱，除砷箱的出水口与清水池的进水口连接;
除砷箱的底部设有排泥口，除砷箱内设有搅拌机。
2.根据权利要求1所述的除砷装置，其特征是，除砷箱为相互串连 的一级除砷箱和二级除砷箱。
3.根据权利要求1或2所述的除砷装置，其特征是，除砷箱与清水 池之间串接有砂滤池和中间池的一个或两个。
4.根据权利要求3所述的除砷装置，其特征是，二级除砷箱的出水 口连接砂滤池的进水口，砂滤池的出水口与清水池的进水口连接，清水池 的出水口与砂滤池的反冲水进口连通。
5.根据权利要求4所述的的除砷装置，其特征是，一级除砷箱、二 级除砷箱、中间池、砂滤池和清水池为罐、箱或混凝土池结构。
6.根据权利要求4所述的的除砷装置，其特征是，一级除砷箱和二 级除砷箱为序批式运行，砂滤池为连续运行。
7.根据权利要求4所述的的除砷装置，其特征是，一级除砷箱、二 级除砷箱、中间池、砂滤池和清水池之间设有提升泵。
说明书
一种砷化镓晶片生产加工废水的除砷装置
技术领域
本实用新型属于废水处理技术领域，具体地涉及一种砷化镓晶片生产 加工废水的除砷装置。
背景技术
在砷化镓晶片生产加工过程中涉及到的晶体合成、生长、切割、研磨、 抛光、清洗等工序均会产生大量含砷废水，砷浓度最高可达100mg/L，主 要以三价砷形态存在，废水呈乳白色，含有大量悬浮颗粒，粒径大多分布 在50～200nm之间，具有极好的悬浮性和分散性，不易被凝集和沉淀。
目前，处理含砷废水的方法主要有化学沉淀法、物化法和生物法。化 学沉淀法是通过加入化学药品，生成不溶性沉淀的途径去除废水中的砷。 物化法主要利用离子交换、吸附、膜过滤等原理将砷去除，此类方法在污 染物浓度低、水量大的废水或饮用水除砷中应用较多，直接应用于砷化镓 晶片生产加工废水除砷一般需复杂的预处理，难度较大。生物法主要通过 生物体对砷进行吸收和富集而去除，同时可通过生物氧化和甲基化等生化 过程降低砷的存在形态和生物毒性。但是，由于砷化镓晶片生产加工废水 中存在的高浓度的三价砷及其它污染物对生物具有很大的毒性，直接应用 此类方法可行性也不大。
由此可见，化学沉淀法相对而言是砷化镓晶片生产加工废水除砷比较 合适的方法，也是目前处理废水的主流工艺，其中以铁盐絮凝沉降法应用 最为广泛。然后，从除砷过程和效果来看，化学沉淀法处理此类废水时遇 到的最大问题是废水悬浮物浓度高、分散性好，从而导致絮凝沉降效果稳 定性不佳，砷的去除效率也会受到较大的干扰。而且，根据我国《重金属 污染综合防治“十二五”规划》，处理后废水砷浓度满足日夜严格的排放标 准的同时还需要实行更严格的总量控制要求，这对砷的去除效率提出了更 大的挑战。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种高效稳定的砷化镓晶片生产加工废水 的除砷装置，以改进公知技术中存在的缺陷。
为实现上述目的，本实用新型提供的砷化镓晶片生产加工废水的除砷 装置，主要包括：
一除砷箱的出水口与清水池的进水口连接;
除砷箱的底部设有排泥口，除砷箱内设有搅拌机。
所述的除砷装置中，除砷箱为相互串连的一级除砷箱和二级除砷箱。
所述的除砷装置中，除砷箱与清水池之间串接有砂滤池和中间池的一 个或两个。
所述的除砷装置中，二级除砷箱的出水口连接砂滤池的进水口，砂滤 池的出水口与清水池的进水口连接，清水池的出水口与砂滤池的反冲水进 口连通。
所述的的除砷装置中，一级除砷箱、二级除砷箱、中间池、砂滤池和 清水池为罐、箱或混凝土池结构。
所述的的除砷装置中，一级除砷箱和二级除砷箱为序批式运行，砂滤 池为连续运行。
所述的的除砷装置中，一级除砷箱、二级除砷箱、中间池、砂滤池和 清水池之间设有提升泵。
本实用新型的除砷装置可以有将解决公知技术中化学沉淀法处理砷 化镓晶片生产加工废水时絮凝沉降效果不稳定、除砷效率受限的问题。