申请日2017.12.21
公开(公告)日2018.08.14
IPC分类号C02F9/06; C02F103/16
摘要
本实用新型公开了CMP不锈钢抛光废水处理装置，包括电解箱和氧化箱，所述电解箱外侧安装有入水口，所述电解箱内部安装有交替分布的阴极盒和阳极板，所述电解箱底部安装有减速箱，所述电解箱侧面安装有移料泵，所述氧化箱外侧安装有出水口，所述出水口内侧安装有滞留竖板，所述减速箱内部安装有三层滞留横板。该种CMP不锈钢抛光废水处理装置，通过电解箱内的阴极盒和阳极板能够充分降解废水中的金属离子，阴极盒可以盛装反应获得的金属沉淀，防止造成管道阻塞现象，氧化箱则能够将废水的氧化能力恢复，使其重新获得抛光能力，提高废水的利用价值，滞留横板和整理竖板均可降低出口处水流速度，从而增加反应时长，使废水得到充分的处理。
权利要求书
1.CMP不锈钢抛光废水处理装置，包括电解箱(1)和氧化箱(15)，其特征在于：所述电解箱(1)外侧安装有入水口(2)，所述入水口(2)贯穿所述电解箱(1)侧面部分，所述电解箱(1)一侧安装有电源箱(8)，所述电源箱(8)与电解箱(1)通过螺钉固定连接，所述电解箱(1)内部安装有交替分布的阴极盒(3)和阳极板(4)，所述电源箱(8)与阴极盒(3)和阳极板(4)电性连接，所述电解箱(1)底部安装有减速箱(5)，所述减速箱(5)与电解箱(1)焊接，所述电解箱(1)侧面安装有移料泵(9)，所述电解箱(1)与移料泵(9)固定连接，所述移料泵(9)外侧安装有移料管(10)，所述移料泵(9)与氧化箱(15)通过移料管(10)固定连接，所述氧化箱(15)内部安装有稳流隔板(12)，所述稳流隔板(12)顶部安装有氧化剂填充口(11)，所述稳流隔板(12)侧面安装有氧化剂添加管(16)，所述氧化剂添加管(16)与氧化箱(15)通过稳流隔板(12)固定连接，所述氧化箱(15)外侧安装有出水口(14)，所述出水口(14)内侧安装有滞留竖板(13)，所述滞留竖板(13)与氧化箱(15)固定连接。
2.根据权利要求1所述的CMP不锈钢抛光废水处理装置，其特征在于：所述阴极盒(3)呈开口向上的敞口盒状。
3.根据权利要求1所述的CMP不锈钢抛光废水处理装置，其特征在于：所述减速箱(5)顶部安装有电解隔板(6)。
4.根据权利要求1所述的CMP不锈钢抛光废水处理装置，其特征在于：所述减速箱(5)内部安装有三层滞留横板(7)，所述滞留横板(7)与减速箱(5)固定连接。
5.根据权利要求1所述的CMP不锈钢抛光废水处理装置，其特征在于：所述氧化剂填充口(11)底部安装有安装头(17)，所述氧化剂添加管(16)与氧化剂填充口(11)通过安装头(17)固定连接。
6.根据权利要求1所述的CMP不锈钢抛光废水处理装置，其特征在于：所述氧化剂填充口(11)内部安装有加压泵(18)，所述氧化剂添加管(16)与加压泵(18)固定连接。
说明书
CMP不锈钢抛光废水处理装置
技术领域
本实用新型涉及废水处理技术领域，具体为CMP不锈钢抛光废水处理装置。
背景技术
化学机械作用研磨液利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的抛光表面，所以化学机械作用研磨液又称为化学机械抛光液(ChemicalMechanical Polishing，简称CMP)。在一定压力及抛光浆料存在下，被抛光工件相对于抛光垫作相对运动，借助于纳米粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用之间的有机结合，在被研磨的工件表面形成光洁表面。研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应，将不溶的物质转化为易溶物质，或者将硬度高的物质进行软化，然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。作为消耗品，研磨液一般是一次性使用。随着CMP市场的扩大，抛光研磨液的排放及后处理工作量也在增大，出于环保原因，即使研磨液不再重复利用，也必须先处理才可以排放。而且，抛光研磨液价格昂贵，如何对抛光研磨液进行后处理，补充必要的化学添加剂，重复利用其中的有效成分，或降级使用，不仅可以减少环境污染，而且可以大大降低加工成本。抛光研磨液的后处理研究将是未来的新研究热点。
所以，如何设计CMP不锈钢抛光废水处理装置，成为我们当前要解决的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供CMP不锈钢抛光废水处理装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：CMP不锈钢抛光废水处理装置，包括电解箱和氧化箱，所述电解箱外侧安装有入水口，所述入水口贯穿所述电解箱侧面部分，所述电解箱一侧安装有电源箱，所述电源箱与电解箱通过螺钉固定连接，所述电解箱内部安装有交替分布的阴极盒和阳极板，所述电源箱与阴极盒和阳极板电性连接，所述电解箱底部安装有减速箱，所述减速箱与电解箱焊接，所述电解箱侧面安装有移料泵，所述电解箱与移料泵固定连接，所述移料泵外侧安装有移料管，所述移料泵与氧化箱通过移料管固定连接，所述氧化箱内部安装有稳流隔板，所述稳流隔板顶部安装有氧化剂填充口，所述稳流隔板侧面安装有氧化剂添加管，所述氧化剂添加管与氧化箱通过稳流隔板固定连接，所述氧化箱外侧安装有出水口，所述出水口内侧安装有滞留竖板，所述滞留竖板与氧化箱固定连接。
进一步的，所述阴极盒呈开口向上的敞口盒状。
进一步的，所述减速箱顶部安装有电解隔板。
进一步的，所述减速箱内部安装有三层滞留横板，所述滞留横板与减速箱固定连接。
进一步的，所述氧化剂填充口底部安装有安装头，所述氧化剂添加管与氧化剂填充口通过安装头固定连接。
进一步的，所述氧化剂填充口内部安装有加压泵，所述氧化剂添加管与加压泵固定连接。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该种CMP不锈钢抛光废水处理装置，通过电解箱内的阴极盒和阳极板能够充分降解废水中的金属离子，阴极盒可以盛装反应获得的金属沉淀，防止沉淀随水流进入装置其他部位，造成管道阻塞现象，氧化箱则能够将废水的氧化能力恢复，使其重新获得抛光能力，提高废水的利用价值，滞留横板和整理竖板均可降低出口处水流速度，从而增加反应时长，使废水得到充分的处理。