申请日2017.08.24
公开(公告)日2018.03.23
IPC分类号C02F9/10; C02F101/10
摘要
本实用新型公开一种高含铝量的煮膜废水处理系统，包括调节池、与所述调节池连接的PH调节池一、与所述PH调节池一连接的沉淀池、与所述沉淀池通过中间池连接的蒸发器、与所述蒸发器的浓水输出端相连接的结晶系统以及与所述蒸发器的淡水输出端连接的PH调节池二，所述PH调节池二连接出水池，所述结晶系统的母液水通过母液管路连接到所述中间池，所述沉淀池连接到污泥池。本实用新型可以实现对进行高含铝量的煮膜废水处理后，能达到排放标准。
权利要求书
1.一种高含铝量的煮膜废水处理系统，其特征在于，包括：
调节池、与所述调节池连接的PH调节池一、与所述PH调节池一连接的沉淀池、与所述沉淀池通过中间池连接的蒸发器、与所述蒸发器的浓水输出端相连接的结晶系统以及与所述蒸发器的淡水输出端连接的PH调节池二，所述PH调节池二连接出水池，所述结晶系统的母液水通过母液管路连接到所述中间池，所述沉淀池连接到污泥池。
2.根据权利要求1所述高含铝量的煮膜废水处理系统，其特征在于，所述结晶系统包括结晶罐。
3.根据权利要求1所述高含铝量的煮膜废水处理系统，其特征在于，所述污泥池内有污泥泵，用于将池内污泥送入到板框压滤机进行压滤处理。
4.根据权利要求1所述高含铝量的煮膜废水 处理系统，其特征在于，所述沉淀池内有污泥泵，用于将污泥送到所述污泥池中。
5.根据权利要求1所述高含铝量的煮膜废水处理系统，其特征在于，所述调节池、PH调节池一、中间池、PH调节池二、出水池中均安装液位计，包括高位液位计及低位液位计。
6.根据权利要求1所述高含铝量的煮膜废水处理系统，其特征在于，所述PH调节池一、中间池、PH调节池二、出水池中均安装有水泵。
7.根据权利要求1所述高含铝量的煮膜废水处理系统，其特征在于，所述调节池、PH调节池一、中间池、PH调节池二均安装有搅拌器。
说明书
一种高含铝量的煮膜废水处理系统
技术领域
本实用新型涉及水处理技术领域，具体涉及一种高含铝量的煮膜废水处理系统。
背景技术
在金属制品中铝有多种优良性能，因此被广泛应用在各行各业中。但因铝的密度很小，仅为2.7g/cm3，其次铝制品比较软以及铝具有良好的延伸性，因此在铝制品加工过程中常常首先需要用模具将铝定性再进行加工。在对铝制品模具进行定型、加工和清洗过程中会产生大量的铝离子含量较高的煮模废水。这种废水如果直接排放会使水体中重金属含量超标，危害水中生物的生长和繁殖。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术中存在的技术缺陷，而提供一种高含铝量的煮膜废水处理系统。
为实现本实用新型的目的所采用的技术方案是：
一种高含铝量的煮膜废水处理系统，包括：
调节池、与所述调节池连接的PH调节池一、与所述PH调节池一连接的沉淀池、与所述沉淀池通过中间池连接的蒸发器、与所述蒸发器的浓水输出端相连接的结晶系统以及与所述蒸发器的淡水输出端连接的PH调节池二，所述PH调节池二连接出水池，所述结晶系统的母液水通过母液管路连接到所述中间池，所述沉淀池连接到污泥池。
所述结晶系统包括结晶罐。
所述污泥池内有污泥泵，用于将池内污泥送入到板框压滤机进行压滤处理。
所述沉淀池内有污泥泵，用于将污泥送到所述污泥池中。
所述调节池、PH调节池一、中间池、PH调节池二、出水池中均安装液位计，包括高位液位计及低位液位计。
所述PH调节池一、中间池、PH调节池二、出水池中均安装有水泵。
所述调节池、PH调节池一、中间池、PH调节池二均安装有搅拌器。
本实用新型通过采用以上技术方案，可以实现对进行高含铝量的煮膜废水处理后，能达到排放标准。