申请日2018.01.31
公开(公告)日2018.10.12
IPC分类号C02F9/04; C02F103/16; C02F101/20
摘要
本实用新型公开了一种压延铜箔表面处理污水净化系统，其包括沿物料输送方向顺次设置的污水池、第一反应池、第二反应池、沉淀池，过滤器以及收集池;所述第一反应池连接有三个储料罐;所述第一反应池设有第一溢流口，所述第二反应池与第一反应池通过溢流口连通，所述第二反应池设有第二溢流口，所述沉淀池与第二反应池通过第二溢流口连通;所述沉淀池、过滤器以及收集池顺次通过管道连通;所述收集池连接有储酸罐。本实用新型能够提高凝絮、沉淀效果，保证污水净化质量。
权利要求书
1.一种压延铜箔表面处理污水净化系统，其特征在于：包括沿物料输送方向顺次设置的污水池、第一反应池、第二反应池、沉淀池，过滤器以及收集池;
所述第一反应池连接有三个储料罐;
所述第一反应池设有第一溢流口，所述第二反应池与第一反应池通过第一溢流口连通，所述第二反应池设有第二溢流口，所述沉淀池与第二反应池通过第二溢流口连通;
所述沉淀池、过滤器以及收集池顺次通过管道连通;
所述收集池连接有储酸罐。
2.根据权利要求1所述的压延铜箔表面处理污水净化系统，其特征在于：所述第一反应池和收集池均连接有pH计。
3.根据权利要求1所述的压延铜箔表面处理污水净化系统，其特征在于：所述收集池设有取样口。
4.根据权利要求1所述的压延铜箔表面处理污水净化系统，其特征在于：所述沉淀池为斜管沉淀池。
5.根据权利要求1所述的压延铜箔表面处理污水净化系统，其特征在于：所述过滤器为活性炭过滤器。
6.根据权利要求1所述的压延铜箔表面处理污水净化系统，其特征在于：所述第二反应池连接有第三反应池。
说明书
一种压延铜箔表面处理污水净化系统
技术领域
本实用新型属于污水处理技术领域，具体涉及一种压延铜箔表面处理污水净化系统。
背景技术
压延铜箔高导电和导热性能，成为PFC及散热等行业的宠儿。铜箔作为基础材料，为实现其更优越的功能性，在其表面进行多种金属电沉积是处理手段之一。压延铜箔电沉积处理工序复杂、金属种类较多，造成大量的电镀废水。此废水中金属离子基本以简单的阳离子和酸根离子的络合形态共同存在。
目前铜箔厂污水净化工艺基本采用化学沉淀法，即将电镀污水调节pH至10-11后，使用金属捕捉剂TMT、高纯度絮凝剂PAC和助剂PAM配合使用实现污水处理。但实际生产中发现，铜箔污水来源不稳定，导致金属离子浓度不可控。在此情况下，PAC、PAM和TMT的使用量及配比很难掌控，造成污水处理后形成细小颗粒或凝胶状难以沉淀、处理后水质不达标或污水处理速度慢导致生产被迫停机等问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出一种压延铜箔表面处理污水净化系统，所述系统能够提高凝絮、沉淀效果，保证污水净化质量。
为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种压延铜箔表面处理污水净化系统，包括沿物料输送方向顺次设置的污水池、第一反应池、第二反应池、沉淀池，过滤器以及收集池。
所述第一反应池连接有三个储料罐。
所述第一反应池设有第一溢流口，所述第二反应池与第一反应池通过第一溢流口连通，所述第二反应池设有第二溢流口，所述沉淀池与第二反应池通过第二溢流口连通。
所述沉淀池、过滤器以及收集池顺次通过管道连通。
所述收集池连接有储酸罐。
进一步地，所述第一反应池和收集池均连接有pH计。
进一步地，所述收集池设有取样口。
进一步地，所述沉淀池为斜管沉淀池。
进一步地，所述过滤器为活性炭过滤器。
进一步地，所述第二反应池连接有第三反应池。
本实用新型的优点在于：
1)本实用新型设置有反应池、沉淀池，加入氢氧化钠、PAC以及PAM，反应后可实现大颗粒沉淀，并根据沉淀颗粒大小、沉淀速度，解决沉积速度慢或者不沉淀后水质不达标以及污水处理速度跟不上的问题。
2)本实用新型不在第一反应池中添加金属捕捉剂TMT，经过TMT处理的污水水质不合格，不添加TMT可减少污水处理系统的复杂程度，降低污水处理成本;本实用新型可通过储物罐输送物料的速度和流量，可提高污水沉淀速度以及过滤速度。