申请日2010.10.21
公开(公告)日2011.01.19
IPC分类号B08B13/00; B08B3/04
摘要
本发明涉及一种硅片清洗废水回用装置，包括相连通的回用水蓄水池、增压水泵、压力水罐及脱胶机蓄水槽;回用水蓄水池内设置有第一液位传感器，压力水罐上设置有压力传感器，第一液位传感器及压力传感器与增压水泵的电控器电连接;脱胶机蓄水槽内设置有第二液位传感器，第二液位传感器与第一电磁阀及第二电磁阀电连接。本发明可充分利用清洗机排放的废水供脱胶机使用，提高了废水回用率，能够有效节约生产用水，减少废水排放;本发明还可以省去清洗机和脱胶机自带的废水回用装置，在节约生产成本的同时也可节约设备成本。
翻译权利要求书
1.一种硅片清洗废水回用装置，其特征是：包括回用水蓄水池(1)、增压水泵(2)、压力水罐(3)及脱胶机蓄水槽(4);所述回用水蓄水池(1)与回用水进水管(11)相连通，所述回用水蓄水池(1)通过抽水管(15)与所述增压水泵(2)相连通，所述增压水泵(2)通过压力水罐进水管(31)与所述压力水罐(3)相连通，所述压力水罐(3)通过压力水罐出水管(33)与第一电磁阀(41)相连通，所述第一电磁阀(41)通过回用水补水管(42)与所述脱胶机蓄水槽(4)相连通，所述脱胶机蓄水槽(4)与自来水补水管(45)相连通，所述自来水补水管(45)上设置有第二电磁阀(44);所述回用水蓄水池(1)内设置有第一液位传感器(13)，所述压力水罐(3)上设置有压力传感器(32)，所述第一液位传感器(13)及所述压力传感器(32)与所述增压水泵(2)的电控器电连接;所述脱胶机蓄水槽(4)内设置有第二液位传感器(43)，所述第二液位传感器(43)与所述第一电磁阀(41)及所述第二电磁阀(44)电连接。
2.按照权利要求1所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是：所述回用水蓄水池(1)低于地面。
3.按照权利要求1或2所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是：所述回用水进水管(11)上设置有滤网(12)。
4.按照权利要求1或2所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是：所述回用水蓄水池(1)上设置有溢流口(14)。
5.按照权利要求1或2所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是：所述压力传感器(32)的上限值为0.3MPa，其下限值为0.2MPa。
说明书
硅片清洗废水回用装置
技术领域
本发明涉及光伏产业的硅片清洗机，具体地说是一种硅片清洗废水回用装置。
背景技术
在太阳能生产企业的硅片生产中，切割完的硅片要经过多级清洗，去除附着在硅片表面的砂浆、油污、灰尘等附着物，以满足后道工序的加工工艺要求。目前所用的硅片清洗机为多级槽式清洗机，一般由九个清洗槽组成，使用阶梯式槽位设计，并将后面五个槽的排放废水部分用于前面的一到四槽的补水，实现了排放废水的部分回用，但是废水回用率不足10%，而且增加了每台清洗机的制造成本。
发明内容
本发明针对上述问题，提供一种硅片清洗废水回用装置，该装置可充分利用清洗机排放的废水，成本低。
按照本发明的技术方案：一种硅片清洗废水回用装置，包括回用水蓄水池、增压水泵、压力水罐及脱胶机蓄水槽;所述回用水蓄水池与回用水进水管相连通，所述回用水蓄水池通过抽水管与所述增压水泵相连通，所述增压水泵通过压力水罐进水管与所述压力水罐相连通，所述压力水罐通过压力水罐出水管与第一电磁阀相连通，所述第一电磁阀通过回用水补水管与所述脱胶机蓄水槽相连通，所述脱胶机蓄水槽与自来水补水管相连通，所述自来水补水管上设置有第二电磁阀;所述回用水蓄水池内设置有第一液位传感器，所述压力水罐上设置有压力传感器，所述第一液位传感器及所述压力传感器与所述增压水泵的电控器电连接;所述脱胶机蓄水槽内设置有第二液位传感器，所述第二液位传感器与所述第一电磁阀及所述第二电磁阀电连接。
所述回用水蓄水池低于地面。
所述回用水进水管上设置有滤网。
所述回用水蓄水池上设置有溢流口。
所述压力传感器的上限值为0.3MPa，其下限值为0.2MPa。
本发明的技术效果在于：本发明可充分利用清洗机排放的废水供脱胶机使用，提高了废水回用率，能够有效节约生产用水，减少废水排放;本发明还可以省去清洗机和脱胶机自带的废水回用装置，在节约生产成本的同时也可节约设备成本。