高氟废水处理系统

发布时间:2018-10-18 8:59:31

  申请日2011.01.27

  公开(公告)日2011.08.10

  IPC分类号C02F9/04

  摘要

  本实用新型公开了一种高氟废水处理系统,位于高氟废水调节槽和低氟废水收集池之间,依次包括一级化学反应池、一级凝集池和一级沉淀池,所述高氟废水处理系统还包括二级化学反应池、二级凝集池和二级沉淀池,所述二级化学反应池、二级凝集池和二级沉淀池依次设置在一级沉淀池和低氟废水收集池之间。本实用新型的高氟废水处理系统增加了二级除氟处理,经过二级除氟处理后,废水中的氟含量有效降低,这样的废水排入低氟废水池后,使低氟废水处理起来更简单,低氟处理系统运行起来也更稳定,降低了运行成本。

  权利要求书 [支持框选翻译]

  1.一种高氟废水处理系统,位于高氟废水调节槽和低氟废水收集池之间,依次包括一级化学反应池、一级凝集池和一级沉淀池,其特征在于,所述高氟废水处理系统还包括二级化学反应池、二级凝集池和二级沉淀池,所述二级化学反应池、二级凝集池和二级沉淀池依次设置在一级沉淀池和低氟废水收集池之间。

  2.如权利要求1所述的一种高氟废水处理系统,其特征在于,所述一级化学反应池、一级凝集池、二级化学反应池、二级凝集池内设置搅拌装置。

  3.如权利要求1所述的一种高氟废水处理系统,其特征在于,所述一级沉淀池、二级沉淀池内设置刮泥机和污泥输送泵。

  4.如权利要求1所述的一种高氟废水处理系统,其特征在于,所述一级化学反应池、二级化学反应池为一个或一个以上。

  说明书 [支持框选翻译]

  一种高氟废水处理系统

  技术领域

  本实用新型涉及水处理技术领域,尤其涉及一种高氟废水处理系统。

  背景技术

  工业和生活废水如果随意排放会对环境造成极大的污染,危害人们的生活,因此在废水排放之前必须对废水进行处理,使其达到国家和地方制定的废水排放标准。

  氟化物是重要的化工原料,广泛应用于冶金、电子、化工等各行业中,因而产生了大量的高浓度含氟废水,污染重,对环境安全构成较大的威胁。高浓度含氟废水中氟的存在形态以Fˉ为主,按照国家《污水综合排放标准》一级标准,氟离子浓度应少于10mg/L。

  目前主要的含氟废水除氟技术有化学沉淀法、混凝沉淀法、吸附法、离子交换法、电凝聚法和反渗透法等。化学沉淀法主要是在废水中加入氯化钙,利用Fˉ与Ca2+反应生成难溶的CaF2沉淀,以固液分离手段从废水中去除,从而达到除氟的目的,优点是价格便宜。但缺点是,在25℃时,CaF2在水中的饱和溶解度为16.5 mg/L,折算成F离子占8.03 mg/L。暂不考虑处理后出水带出的CaF2固形物,处理后出水中溶解性CaF2已无法达到现行的国家废水排放标准。混凝沉淀法主要是采用铝盐加入到废水中,使Al3+与Fˉ络合生成羟基氟化铝化合物以及铝盐水解中间产物,部分Al3+生成Al(OH)3,通过对Fˉ的配位体交换、物理吸附、网捕作用而去除废水中的氟,但对于高氟废水而言处理成本太高。

  传统的高氟废水处理工艺为,对高氟废水进行一级处理后排入低氟废水池,进行低氟处理。但对于浓度在30000mg/L以上的高氟废水,单用一种工艺难以达到低氟1000mg/L 的水质接收标准或者处理成本过高,经过一级处理后废水中的氟含量为5000 mg/L以上,浓度还是比较高,排入低氟废水池后,使低氟废水池的含氟浓度变高,使低氟废水处理起来不稳定。

  实用新型内容

  本实用新型就是为了解决上述现有技术存在的问题而提供一种高氟废水处理系统,采用组合工艺实现处理后废水中的氟含量有效降低。

  本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:

  一种高氟废水处理系统,位于高氟废水调节槽和低氟废水收集池之间,依次包括一级化学反应池、一级凝集池和一级沉淀池,所述高氟废水处理系统还包括二级化学反应池、二级凝集池和二级沉淀池,所述二级化学反应池、二级凝集池和二级沉淀池依次设置在一级沉淀池和低氟废水收集池之间。

  所述一级化学反应池、一级凝集池、二级化学反应池、二级凝集池内设置搅拌装置。

  所述一级沉淀池、二级沉淀池内设置刮泥机和污泥输送泵。

  所述一级化学反应池、二级化学反应池为一个或一个以上。

  与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:

  本实用新型提供的一种高氟废水处理系统采用“化学沉淀+混凝沉淀”的组合除氟工艺,增加了二级除氟处理,化学沉淀法除氟量大,作为高氟废水的第一级处理工艺,混凝法和吸附法对低氟水有较好的去除效果,作为第二级处理工艺。经过二级除氟处理后,大大降低了出水的氟浓度,废水中的氟含量为1000 mg/L以下,这样的废水排入低氟废水池后,使低氟废水处理起来更简单,低氟处理系统运行起来也更稳定,降低了运行成本。回流污泥起到了晶种的作用,并可通过卷扫、吸附等作用除氟;全程可接入计算机控制,系统运行稳定。

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