废水处理方法技术

发布时间:2018-8-12 10:45:53

  申请日2014.02.21

  公开(公告)日2014.08.27

  IPC分类号C02F1/20; C02F1/04

  摘要

  一种废水处理装置包含一淋式导引炉,其包含一槽体、一循环加热装置以及一淋式结构。槽体具有一进水口、一循环进水口、一循环出水口、一排水口以及一排气口,其中,循环进水口以及排气口设置于槽体的上半部,且循环出水口以及排水口设置于槽体的下半部。循环加热装置用以将槽体下半部的废水抽出槽体外加热至一循环温度,并将加热的废水经由循环进水口引入槽体。淋式结构设置于槽体内的上半部,用以使废水形成多个较小水流洒下,其中,废水中的特定成分气化并经由排气口抽离槽体。上述废水处理装置能够大幅节省能源,并达到较高的回收效率。

  权利要求书

  1.一种废水处理装置,其特征在于,其用以自一废水中分离出一特定成分,该废水处理装置包含:

  一淋式导引炉,其包含:

  一槽体,其具有一进水口、一循环进水口、一循环出水口、一排水口以及一排气口,其中,该废水经由该进水口引入至该槽体,该循环进水口以及该排气口设置于该槽体的上半部,且该循环出水口以及该排水口设置于该槽体的下半部;

  一循环加热装置,其设置于该循环进水口以及该循环出水口之间,用以将该槽体下半部的该废水抽出该槽体外加热至一循环温度,并将加热后的该废水经由该循环进水口引入该槽体;以及

  一淋式结构,其设置于该槽体内的上半部,用以使该废水形成多个较小水流洒下,其中,该废水中的该特定成分气化并经由该排气口抽离该槽体。

  2.如权利要求1所述的废水处理装置,其特征在于,该循环温度的温度范围为摄氏25至99度。

  3.如权利要求1所述的废水处理装置,其特征在于,更包含:

  一第一热交换器,其设置于该进水口的上游侧,用以调整该废水至一第一温度。

  4.如权利要求3所述的废水处理装置,其特征在于,该第一温度的温度范围为摄氏15至99度。

  5.如权利要求1所述的废水处理装置,其特征在于,更包含:

  一第二热交换器,其设置于该排气口的下游侧,用以调整经由该排气口排出的该特定成分至一第二温度。

  6.如权利要求5所述的废水处理装置,其特征在于,该第二温度的温度范围为摄氏-10至99度。

  7.如权利要求5所述的废水处理装置,其特征在于,该第二热交换器的出口端为气态或液态的该特定成分。

  8.如权利要求1所述的废水处理装置,其特征在于,该槽体包含一隔热结构。

  9.如权利要求1所述的废水处理装置,其特征在于,该循环加热装置连接至该循环进水口的一管路包含一隔热结构。

  10.如权利要求1所述的废水处理装置,其特征在于,该循环加热装置连接至该循环出水口的一管路包含一隔热结构。

  11.一种含氨废水处理装置,其特征在于,其用以自一废水中分离出氨,该废水处理装置包含:

  一淋式导引炉,其包含:

  一槽体,其具有一进水口、一循环进水口、一循环出水口、一排水口以及一排气口,其中,该废水经由该进水口引入至该槽体,该循环进水口以及该排气口设置于该槽体的上半部,且该循环出水口以及该排水口设置于该槽体的下半部;

  一循环加热装置,其设置于该循环进水口以及该循环出水口之间,用以将该槽体下半部的该废水抽出该槽体外加热至一循环温度,并将加热后的该废水经由该循环进水口引入该槽体;以及

  一淋式结构,其设置于该槽体内的上半部,用以使该废水形成多个较小水流洒下,其中,该废水中的氨气化并经由该排气口抽离该槽体。

  12.如权利要求11所述的含氨废水处理装置,其特征在于,该循环温度的温度范围为摄氏25至99度。

  13.如权利要求11所述的含氨废水处理装置,其特征在于,更包含:

  一第一热交换器,其设置于该进水口的上游侧,用以调整该废水至一第一温度。

  14.如权利要求13所述的含氨废水处理装置,其特征在于,该第一温度的温度范围为摄氏15至99度。

  15.如权利要求11所述的含氨废水处理装置,其特征在于,更包含:

  一第二热交换器,其设置于该排气口的下游侧,用以调整经由该排气口排出的氨至一第二温度。

  16.如权利要求15所述的含氨废水处理装置,其特征在于,该第二温度的温度范围为摄氏-10至99度。

  17.如权利要求15所述的含氨废水处理装置,其特征在于,该第二热交换器的出口端为气态氨或液态氨。

  18.如权利要求11所述的含氨废水处理装置,其特征在于,该槽体包含一隔热结构。

  19.如权利要求11所述的含氨废水处理装置,其特征在于,该循环加热装置连接至该循环进水口的一管路包含一隔热结构。

  20.如权利要求11所述的含氨废水处理装置,其特征在于,该循环加热装置连接至该循环出水口的一管路包含一隔热结构。

  说明书

  废水处理装置

  技术领域

  本实用新型是有关一种废水处理装置,特别是一种从废水中分离出特定成分的废水处理装置。

  背景技术

  半导体工艺经常会产生废气或废水,为了符合环保法规,废气或废水中的特定成分需降低至标准值以下才能进行排放。举例而言,氨(NH3)常被应用于蚀刻、外延或清洁等半导体工艺,而未经反应的氨则从半导体装置中排出。因此,在半导体工艺的后端需进行废气处理,以将氨从废气或废水中去除,以符合环保法规。

  已知处理含有氨的废气或废水的方法主要有酸吸收法以及燃烧法。酸吸收法是以硫酸或磷酸等来吸附氨,并将氨转化为硫酸铵液或磷酸铵液再进行排放,但仍需符合环保法令的相关规定。燃烧法则是将废气进行燃烧排放,其导致较高的维修以及操作成本。此外,上述方法无法回收氨再利用。

  综上所述,提供一种以较低操作成本即可从废水中分离出特定成分的废水处理装置便是目前极需努力的目标。

  实用新型内容

  本实用新型提供一种废水处理装置,其是以一淋式导引炉使废水以较小水流型式洒下,以提升废水中特定成分气化的效率,进而使特定成分自废水中分离出来。

  本实用新型一实施例的废水处理装置是用以自一废水中分离出一特定成分。废水处理装置包含一淋式导引炉,其包含一槽体、一循环加热装置以及一淋式结构。槽体具有一进水口、一循环进水口、一循环出水口、一排水口以及一排气口,其中,废水经由进水口引入至槽体,循环进水口以及排气口设置于槽体的上半部,且循环出水口以及排水口设置于槽体的下半部。循环加热装置设置于循环进水口以及循环 出水口之间,用以将槽体下半部的废水抽出槽体外加热至一循环温度,并将加热的废水经由循环进水口引入槽体。淋式结构设置于槽体内的上半部,用以使废水形成多个较小水流洒下,其中,废水中的特定成分气化并经由排气口抽离槽体。

  本实用新型另一实施例的含氨废水处理装置是用以自一废水中分离出氨。废水处理装置包含一淋式导引炉,其包含一槽体、一循环加热装置以及一淋式结构。槽体具有一进水口、一循环进水口、一循环出水口、一排水口以及一排气口,其中,废水经由进水口引入至槽体,循环进水口以及排气口设置于槽体的上半部,且循环出水口以及排水口设置于槽体的下半部。循环加热装置设置于循环进水口以及循环出水口之间,用以将槽体下半部的废水抽出槽体外加热至一循环温度,并将加热后的废水经由循环进水口引入槽体。淋式结构设置于槽体内的上半部,用以使废水形成多个较小水流洒下,其中,废水中的氨气化并经由排气口抽离槽体。

相关推荐