申请日2013.10.29
公开(公告)日2014.05.21
IPC分类号C02F9/04; C02F103/16; C02F101/38
摘要
本实用新型公开了一种去除废水中EDTA的装置，包括紫外线辐照氧化处理系统、絮凝沉淀系统以及pH值回调系统;所述紫外线辐射氧化处理系统包括氧化池、硫酸储存箱、双氧水储存箱、紫外线灯、第一搅拌器，所述氧化池的出水口与絮凝沉淀系统的入口相连接;所述絮凝沉淀系统包括1#pH值调节池、斜管式沉淀池、烧碱溶液储存箱、PAM储存箱、污泥池、第二搅拌器，所述斜管式沉淀池的上部清水出口与pH值回调系统的入口相连接;所述pH值回调系统包括2#pH值调节池、第三搅拌器。本实用新型结构合理、采用较为简单的装置解决了含EDTA废水在中水回用过程中的堵膜问题，减少了中水回用过程中的停工时间。
权利要求书
1.一种去除废水中EDTA的装置，其特征在于包括紫外线辐照氧化处理系统、絮凝沉淀系统以及pH值回调系统;所述紫外线辐射氧化处理系统包括氧化池(1)、硫酸储存箱(5)、双氧水储存箱(6)、紫外线灯(9)、第一搅拌器(11)，所述紫外线灯(9)置于相应石英套中并竖直安装于氧化池(1)内部，所述第一搅拌器(11)置于氧化池上方且其搅拌桨插入氧化池(1)内，所述硫酸储存箱(5)、双氧水储存箱(6)分别与氧化池(1)相连接，所述氧化池(1)的出水口与所述絮凝沉淀系统的入口相连接;所述絮凝沉淀系统包括1#pH值调节池(2)、斜管式沉淀池(3)、烧碱溶液储存箱(7)、PAM储存箱(8)、污泥池(10)、第二搅拌器(17)，所述第二搅拌器(17)置于1#pH值调节池(2)上方且其搅拌桨插入1#pH值调节池(2)内，所述烧碱溶液储存箱(7)、PAM储存箱(8)分别和1#pH值调节池(2)相连接，所述1#pH值调节池(2)的出水口和斜管式沉淀池(3)的入口相连接，所述斜管式沉淀池(3)下部污泥出口与污泥池(10)相连接，所述斜管式沉淀池(3)的上部清水出口与所述pH值回调系统的入口相连接;所述pH值回调系统包括2#pH值调节池(4)、第三搅拌器(24)，所述第三搅拌器(24)置于2#pH值调节池(4)上方且其搅拌桨插入2#pH值调节池(4)内，所述2#pH值调节池(4)与所述硫酸储存箱(5)相连接，所述2#pH值调节池(5)的出水口与中水回用装置的反渗透膜系统相连接。
2.根据权利要求1所述的去除废水中EDTA的装置，其特征在于所述双氧水储存箱(6)和氧化池(1)的连接管路上设有计量泵(15)。
3.根据权利要求1所述的去除废水中EDTA的装置，其特征在于所述氧化池(1)还设有第一pH控制器(14)，所述硫酸储存箱(5)和氧化池(1)的连接管路上设有第一加药泵(13)，所述第一加药泵(13)由第一pH控制器(14)控制。
4.根据权利要求1所述的去除废水中EDTA的装置，其特征在于所述PAM储存箱(8)和1#pH值调节池(2)的连接管路上设有第三加药泵(20)。
5.根据权利要求1所述的去除废水中EDTA的装置，其特征在于所述1#pH值调节池(2)还设有第二pH控制器(19)，所述烧碱溶液储存箱(7)和1#pH值调节池(2)的连接管路上设有第二加药泵(18)，所述第二加药泵(18)由第二pH控制器(19)控制;
所述2#pH值调节池(4)还设有第三pH控制器(26)，所述硫酸储存箱(5)和2#pH值调节池(4)的连接管路上设有第四加药泵(25)，所述第四加药泵(25)由第三pH控制器(26)控制。
6.根据权利要求1所述的去除废水中EDTA的装置，其特征在于在所述氧化池(1)的进水管路上设有第一水泵(12)。
7.根据权利要求1所述的去除废水中EDTA的装置，其特征在于所述氧化池(1)和1#pH值调节池(2)的连接管路上设有第二水泵(16)，所述1#pH值调节池(2)和斜管式沉淀池(3)的连接管路上设有第三水泵(21)，所述斜管式沉淀池(3)和2#pH值调节池(4)的连接管路上设有第四水泵(23)。
8.根据权利要求1所述的去除废水中EDTA的装置，其特征在于所述2#pH值调节池(4)和中水回用装置的反渗透膜系统的连接管路上设有第五水泵(27)。
9.根据权利要求1所述的去除废水中EDTA的装置，其特征在于所述斜管式沉淀池(3)和污泥池(10)的连接管路上还设有污泥泵(22)。
说明书
一种去除废水中EDTA的装置
技术领域
本发明属于工业废水处理技术领域，具体涉及一种去除废水中EDTA的装置，特别是涉及一种去除电镀或化镀废水中EDTA的装置。
背景技术
电镀或者化镀行业的中水回用一般是指对镀后产品进行漂洗所产生的漂洗废水或者镀前产品进行酸洗时的酸洗废水通过反渗透处理而循环使用的过程。EDTA(Ethylene Diamine Tetraacetic Acid，乙二胺四乙酸，本发明EDTA表示EDTA及其盐。)是一类良好的金属络合剂，它有六个配位原子，可以与所有的金属原子形成摩尔比为1:1的稳定的水溶性配位化合物，这种配位化合物也就是通常所说的螯合物。除钠盐外，还有铵盐及铁、镁、钙、铜、锰、锌、钴、铝等各种盐。EDTA及其盐被广泛应用于电镀、纺织印染、精细化工、医药、合成橡胶以及食品等工业。EDTA及其盐在电镀及化镀工业中广泛应用于Pb2+、Cu2+、Zn2+以及Cr3+等的螯合剂，在这些应用中尤以EDTA-2Na最为重要。由于EDTA及其盐属于稳定的化合物，在水中与重金属离子形成的螯合物也很稳定，在电镀及化镀废水处理中相对困难。传统采用Fenton试剂或者Fenton试剂与紫外线辐照相结合的方式处理，均无法去除EDTA。采用这些方法处理后EDTA几乎完全无变化甚至与加入的Fe2+或者Fe3+转化成了更加稳定的物质。如果漂洗废水中所含的络合物在进行反渗透之前没有能够被有效破除，在中水回用的反渗透过程中将会出现严重的膜堵塞问题。
现有EDTA生物降解的方法只适用于不含重金属离子的废水体系。由于EDTA自身的稳定性，不含重金属离子的废水体系生化处理周期通常超过5天时间，导致设备及场地占用问题突出，一次投资成本过高。采用铁碳床电解法进行EDTA的处理也有铁碳床自身的一些缺点：高耗电以及铁碳床的板结问题。并且以上方法只适用于对电镀或者化镀漂洗水的直接处理排放，并不能用于现在电镀及化镀行业普遍要求的中水回用。所以，实现对EDTA的直接处理再进行中水回用具有重要的意义。
发明内容
本实用新型的目的是针对电镀及化学镀工业中EDTA去除的难题，使用特定的装置，按照“紫外线辐照处理→沉淀→pH值回调”的工艺过程，设计一种能够快速高效、低成本去除废水中EDTA的装置，解决中水回用过程中由于EDTA络合物的存在而导致的堵膜问题。
本实用新型的目的可以通过以下措施达到：
一种去除废水中EDTA的装置，包括紫外线辐照氧化处理系统、絮凝沉淀系统以及pH值回调系统;所述紫外线辐射氧化处理系统包括氧化池、硫酸储存箱、双氧水储存箱、紫外线灯、第一搅拌器，所述紫外线灯置于相应石英套中并竖直安装于氧化池内部，所述第一搅拌器置于氧化池上方且其搅拌桨插入氧化池内，所述硫酸储存箱、双氧水储存箱分别与氧化池相连接，所述氧化池的出水口与所述絮凝沉淀系统的入口相连接;所述絮凝沉淀系统包括1#pH值调节池、斜管式沉淀池、烧碱溶液储存箱、PAM储存箱、污泥池、第二搅拌器，所述第二搅拌器置于1#pH值调节池上方且其搅拌桨插入1#pH值调节池内，所述烧碱溶液储存箱、PAM储存箱分别和1#pH值调节池相连接，所述1#pH值调节池的出水口和斜管式沉淀池的入口相连接，所述斜管式沉淀池下部污泥出口与污泥池相连接，所述斜管式沉淀池的上部清水出口与所述pH值回调系统的入口相连接;所述pH值回调系统包括2#pH值调节池、第三搅拌器，所述第三搅拌器置于2#pH值调节池上方且其搅拌桨插入2#pH值调节池内，所述2#pH值调节池与所述硫酸储存箱相连接，所述2#pH值调节池的出水口与中水回用装置的反渗透膜系统相连接。
所述双氧水储存箱和氧化池的连接管路上设有计量泵，用于控制双氧水加入量。所述氧化池还设有1#pH控制器，所述硫酸储存箱和氧化池的连接管路上设有第一加药泵，所述第一加药泵由第一pH控制器控制。
所述PAM储存箱和1#pH值调节池的连接管路上设有第三加药泵，用于控制PAM加入量。
所述1#pH值调节池还设有第二pH控制器，所述烧碱溶液储存箱和1#pH值调节池的连接管路上设有第二加药泵，所述第二加药泵由第二pH控制器控制。
所述2#pH值调节池还设有第三pH控制器，所述硫酸储存箱和2#pH值调节池的连接管路上设有第四加药泵，所述第四加药泵由第三pH控制器控制。
所述氧化池和生产线上废水出水口相连接，在氧化池的进水管路上设有第一水泵。
所述氧化池和1#pH值调节池的连接管路上设有第二水泵，所述1#pH值调节池和斜管式沉淀池的连接管路上设有第三水泵，所述斜管式沉淀池和2#pH值调节池的连接管路上设有第四水泵。
所述2#pH值调节池和中水回用装置的反渗透膜系统的连接管路上设有第五水泵。
所述斜管式沉淀池和污泥池的连接管路上还设有污泥泵，所述污泥泵用于定期抽出污泥池中的沉淀污泥。
和现有技术相比，本实用新型的特点是：
本实用新型增加了紫外辐照、絮凝沉淀及pH值调节装置，对于现有中水回用设备只需要进行少量的改装，不需要大的设备投资及场地扩容。
本实用新型结构合理、采用较为简单的装置解决了含EDTA废水在中水回用过程中的堵膜问题，减少了中水回用过程中的停工时间。经本装置处理后的废水在中水回用过程中产生的膜浓水中络合物含量很低，降低了膜浓水的处理难度，可以实现膜浓水的直接化学、物理处理而无需采用高耗能的蒸发处理设备，所以也降低了膜浓水的处理成本。