申请日2017.10.1
公开(公告)日2018.02.02
IPC分类号C02F9/06; C02F103/04
摘要
本发明公开了一种高纯水处理系统，包括控制装置、大循环回流管道以及依次串联的纯水箱、增压泵和水处理装置，大循环回流管道的一端通过第六三通阀与水处理装置的出水口相连，大循环回流管道的另一端与纯水箱的回水口相连，水处理装置中布置有至少一个小循环回路。本发明通过设计水处理装置获得高纯水;设计大循环回流管道连接终端过滤设备和纯水箱循环处理水，当用水点不用水时，将水输送回纯水箱循环处理;在水处理装置中设计有小循环回路，若在水处理装置中处理后水质电阻率仍未达标，可通过小循环回路将水在水处理装置中重新处理。本发明通过上述改进可在输送过程中保证水质不会变差，可广泛应用于水处理设备领域。
权利要求书
1.一种高纯水处理系统，包括控制装置，其特征在于：还包括大循环回流管道(6)以及依次串联布置的纯水箱(1)、增压泵(2)和水处理装置，所述大循环回流管道(6)的一端通过第六三通阀(62)与所述水处理装置的出水口相连，大循环回流管道(6)的另一端与所述纯水箱(1)的回水口相连，所述水处理装置中布置有可循环处理水的小循环回路。
2.根据权利要求1所述的一种高纯水处理系统，其特征在于：所述水处理装置包括依次串联的EDI纯水设备(3)、抛光混床(4)以及终端过滤设备(5)，所述水处理装置的出水口就是所述终端过滤设备(5)的出水口。
3.根据权利要求2所述的一种高纯水处理系统，其特征在于：所述小循环回路包括第五小循环回流管道(53)和第五监测表(51)，所述第五小循环回流管道(53)的一端通过第五三通阀(52)与所述终端过滤设备(5)出水口的管道相连，第五小循环回流管道(53)的另一端与所述终端过滤设备(5)的回水口相连，所述第五监测表(51)布置在所述终端过滤设备(5)的出水口与第五三通阀(52)之间的管道上。
4.根据权利要求2或3所述的一种高纯水处理系统，其特征在于：所述小循环回路包括第四小循环回流管道(43)和第四监测表(41)，所述第四小循环回流管道(43)的一端通过第四三通阀(42)与所述抛光混床(4)出水口的管道相连，第四小循环回流管道(43)的另一端与所述抛光混床(4)的回水口相连，所述第四监测表(41)布置在所述抛光混床(4)的出水口与第四三通阀(42)之间的管道上。
5.根据权利要求4所述的一种高纯水处理系统，其特征在于：所述小循环回路包括第三小循环回流管道(33)和第三监测表(31)，所述第三小循环回流管道(33)的一端通过第三三通阀(32)与所述EDI纯水设备出水口的管道相连，第三小循环回流管道(33)的另一端与所述EDI纯水设备(3)的回水口相连，所述第三监测表(31)布置在所述EDI纯水设备的出水口与第三三通阀(32)之间的管道上。
6.根据权利要求2所述的一种高纯水处理系统，其特征在于：所述小循环回路包括甲小循环回流管道和第五监测表(51)，所述甲小循环回流管道的一端通过第五三通阀(52)与所述终端过滤设备(5)出水口的管道相连，甲小循环回流管道的另一端与所述EDI纯水设备(3)的回水口相连，所述第五监测表(51)布置在所述终端过滤设备(5)的出水口与第五三通阀(52)之间的管道上。
7.根据权利要求2所述的一种高纯水处理系统，其特征在于：所述小循环回路包括乙小循环回流管道和第五监测表(51)，所述乙小循环回流管道的一端通过第五三通阀(52)与所述终端过滤设备(5)出水口的管道相连，乙小循环回流管道的另一端与所述抛光混床(4)的回水口相连，所述第五监测表(51)布置在所述终端过滤设备(5)的出水口与第五三通阀(52)之间的管道上。
8.根据权利要求2或3所述的一种高纯水处理系统，其特征在于：所述小循环回路包括丙小循环回流管道和第四监测表(41)，所述丙小循环回流管道的一端通过第四三通阀(42)与所述抛光混床(4)出水口的管道相连，丙小循环回流管道的另一端与所述EDI纯水设备(3)的回水口相连，所述第四监测表(41)布置在所述抛光混床(4)的出水口与第四三通阀(42)之间的管道上。
9.根据权利要求3或6或7所述的一种高纯水处理系统，其特征在于：所述第五三通阀(52)布置在所述终端过滤设备(5)的出水口与所述第六三通阀(62)之间的管道上。
10.根据权利要求1所述的一种高纯水处理系统，其特征在于：所述大循环回流管道(6)上布置有第一压力表。
说明书
一种高纯水处理系统
技术领域
本发明涉及水处理设备领域，特别涉及一种高纯水处理系统。
背景技术
随着科学技术的突飞猛进，高科技行业对高纯水的使用要求日益提高。如现代生物科技对高纯水电导率的要求从3us/cm逐渐提高至0.067us/cm，而电子、化工、医药实验室高纯水电阻率的要求从10MΩ·cm逐渐提高至18.25MΩ·cm。这迫使高纯水的制取工艺及输送工艺要不断改进，才能满足现代科研生产对高纯水提出更高的要求。
目前制取高纯水的工艺基本成熟，产水口在线检测的水质是符合要求的，但输送到使用点时，水质变差达不到使用要求。具体制取工艺如下：自来水→原水箱储存→增压泵→预处理→二级RO系统→纯水箱储存→增压泵→EDI装置→高纯水箱储存→输送泵→用水点。以上工艺，EDI装置产水的电阻率在线检测一般可以达到16MΩ·cm-18MΩ·cm，而通过输送泵达到使用点时，电阻率下降为2MΩ·cm-10MΩ·cm，完全达不到用水要求。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种高纯水处理系统，能够保证在输送过程中，水质不会变差。
为解决上述技术问题所采用的技术方案：
一种高纯水处理系统，包括控制装置、大循环回流管道以及依次串联布置的纯水箱、增压泵和水处理装置，所述大循环回流管道的一端通过第六三通阀与所述水处理装置的出水口相连，大循环回流管道的另一端与所述纯水箱的回水口相连，所述水处理装置中布置有至少一个循环处理水的小循环回路。
进一步，所述水处理装置包括依次串联的EDI纯水设备、抛光混床以及终端过滤设备，所述水处理装置的出水口就是所述终端过滤设备的出水口。
进一步，所述小循环回路包括第五小循环回流管道和第五监测表，所述第五小循环回流管道的一端通过第五三通阀与所述终端过滤设备出水口的管道相连，第五小循环回流管道的另一端与所述终端过滤设备的回水口相连，所述第五监测表布置在所述终端过滤设备的出水口与第五三通阀之间的管道上。
进一步，所述小循环回路包括第四小循环回流管道和第四监测表，所述第四小循环回流管道的一端通过第四三通阀与所述抛光混床出水口的管道相连，第四小循环回流管道的另一端与所述抛光混床的回水口相连，所述第四监测表布置在所述抛光混床的出水口与第四三通阀之间的管道上。
进一步，所述小循环回路包括第三小循环回流管道和第三监测表，所述第三小循环回流管道的一端通过第三三通阀与所述EDI纯水设备出水口的管道相连，第三小循环回流管道的另一端与所述EDI纯水设备的回水口相连，所述第三监测表布置在所述EDI纯水设备的出水口与第三三通阀之间的管道上。
进一步，所述小循环回路包括甲小循环回流管道以及第五监测表，所述甲小循环回流管道的一端通过第五三通阀与所述终端过滤设备出水口的管道相连，甲小循环回流管道的另一端与所述EDI纯水设备的回水口相连，所述第五监测表布置在所述终端过滤设备的出水口与第五三通阀之间的管道上。
进一步，所述小循环回路包括乙小循环回流管道以及第五监测表，所述乙小循环回流管道的一端通过第五三通阀与所述终端过滤设备出水口的管道相连，乙小循环回流管道的另一端与所述抛光混床的回水口相连，所述第五监测表布置在所述终端过滤设备的出水口与第五三通阀之间的管道上。
进一步，所述小循环回路包括丙小循环回流管道和第四监测表，所述丙小循环回流管道的一端通过第四三通阀与所述抛光混床出水口的管道相连，丙小循环回流管道的另一端与所述EDI纯水设备的回水口相连，所述第四监测表布置在所述抛光混床的出水口与第四三通阀之间的管道上。
进一步，所述第五三通阀布置在所述终端过滤设备的出水口与第六三通阀之间的管道上。进一步，所述大循环回流管道上布置有第一压力表。
有益效果：本发明通过设计具有EDI纯水设备、抛光混床和终端过滤设备的水处理装置获得高纯水;设计大循环回流管道连接终端过滤设备和纯水箱，当用水点不用水时，可将水输送回纯水箱循环处理;在水处理装置中设计至少一个小循环回路，若在水处理装置中处理后水质电阻率仍未达标，可通过小循环回路将水输送回水处理装置中重新处理。本发明通过上述改进能够保证在输送过程中水质不会变差，可广泛应用于水处理设备领域。