制革废水处理过程水质检测方法

发布时间:2018-4-28 17:21:55

  申请日2014.12.10

  公开(公告)日2015.04.01

  IPC分类号G01N21/64

  摘要

  本发明公开了一种制革废水处理过程的水质检测方法:首先,将制革废水处理过程水样离心,上清液过0.45μm滤膜后得到DOM溶液样品;其次,分析样品DOM的三维荧光光谱,计算不同处理工段废水DOM的荧光总强度;再次,以废水DOM荧光总强度去除率代表废水有机污染物去除率,该方法弥补了现有技术的不足,具有灵敏度高、重现性好、操作简便、分析费用低廉等特点和潜在的推广应用价值,有助于深度解析制革废水的净化机制。

  权利要求书

  1.一种制革废水处理过程的水质检测方法,其特征在于:包括以下步骤:

  第一步,将取自各个废水处理工段的水样离心,将离心得到的上清液分别经滤膜 过滤后得到溶解性有机物溶液;

  第二步,对溶解性有机物溶液分别进行荧光光谱分析,将分析得到的每个荧光光 谱中的所有荧光峰强无量纲数值相加,得到所述各个废水处理工段的水样各自的荧光 总强度TFI:

   TFI = Σ i = 1 n FP i

  其中,FPi表示第i个荧光峰的荧光峰强无量纲数值,n表示每个荧光光谱中的荧 光峰总数;

  第三步,利用以下公式计算所述各个废水处理工段的水样的荧光总强度去除率:

   TFI 1 - TFI t TFI 1 × 100 % , 1 t m

  其中,TFI1表示取自第1个废水处理工段的水样的荧光总强度,TFIt表示取自第 t个废水处理工段的水样的荧光总强度,m表示废水处理工段总数。

  2.根据权利要求1所述一种制革废水处理过程的水质检测方法,其特征在于: 所述废水处理过程由以下废水处理工段组成:进水口、水解酸化池、二级生化池、四 级生化池、二沉池和出水口。

  3.根据权利要求1所述一种制革废水处理过程的水质检测方法,其特征在于: 所述荧光光谱分析的条件包括:激发波长扫描范围Ex为200~500nm,发射波长扫描 范围Em为200~700nm。

  说明书

  一种制革废水处理过程的水质检测方法

  技术领域

  本发明涉及废水处理过程的水质检测领域,尤其涉及一种以溶解性有机物(DOM) 为评价目标的制革废水处理过程水质检测的方法。

  背景技术

  制革废水是皮革生产过程排放的综合废水,具有色度深、盐度高、碱性强、水量大等 特点,与造纸废水、印染废水并称为“三大废水”。我国现有皮革企业近3万家(其中制革 企业2千余家),废水年排放量2亿t以上,废水处理达标率总体较低。近些年,国家对 废水排放要求日趋严格,在这种大环境下,除了要不断研发废水处理新工艺、新设备和新 技术之外,对于废水净化过程水质的实时监控也应当给予足够重视。这不仅有助于及时应 对废水处理过程的突发状况,对于污染物“质”和“量”的连续检测也能够带动技术升级,开 发更实用、更先进的废水处理设备,进而促进技术研发和转化应用的协同创新。

  现阶段,制革废水处理工艺包括生物接触氧化池法、氧化沟法、间歇式活性污泥法等, 净化效果衡量指标涉及化学需氧量(COD)、硫化物、总铬等。但多数情况下,进出水参 数无法从本质上揭示水体有机污染物的精细组分和降解规律(比如,废水处理过程溶解性 有机物的生成和转化行为),这对于深度揭示制革废水的净化机制是不利的,建立废水水 质检测的新方法便成为当务之急。

  很多物质(比如多糖、氨基酸、腐殖酸、富里酸等)都含有不饱和双键共轭结构,-COOH、 -OH、-NH2等活性基团较多,对于多数光谱仪器都有较好的响应信号。DOM对于环境体 系的识别功能和指示价值已受到学者们的密切关注。制革废水含有油脂、胶原蛋白、表面 活性剂等组分,废水处理过程生成的DOM能够产生特异性的光谱响应,可以尝试通过检 测制革废水DOM的光谱差异并建立DOM与废水有机污染物去除率的内在关系,来明 确制革废水的净化效果。但目前,以制革废水处理过程DOM为切入点表征废水净化效果 暂未见报道。

  发明内容

  本发明的目的在于提供一种制革废水处理过程的水质检测方法,该方法灵敏度 高、重现性好、操作简便、分析费用低廉,具有潜在的推广应用价值。

  为达到上述目的,本发明采用了以下技术方案:

  第一步,将取自各个废水处理工段的水样离心,将离心得到的上清液分别经滤膜 过滤后得到溶解性有机物溶液;

  第二步,对溶解性有机物溶液分别进行荧光光谱分析,将分析得到的每个荧光光 谱中的所有荧光峰强无量纲数值相加,得到所述各个废水处理工段的水样各自的荧光 总强度TFI:

   TFI = Σ i = 1 n FP i

  其中,FPi表示第i个荧光峰的荧光峰强无量纲数值,n表示每个荧光光谱中的荧 光峰总数;

  第三步,利用以下公式计算所述各个废水处理工段的水样的荧光总强度去除率:

   TFI 1 - TFI t TFI 1 × 100 % , 1 t m

  其中,TFI1表示取自第1个废水处理工段的水样的荧光总强度,TFIt表示取自第 t个废水处理工段的水样的荧光总强度,m表示废水处理工段总数。

  所述废水处理过程由以下废水处理工段组成:进水口、水解酸化池、二级生化池、 四级生化池、二沉池和出水口。

  所述荧光光谱分析的条件包括:激发波长扫描范围Ex为200~500nm,发射波长 扫描范围Em为200~700nm。

  与现有技术相比,本发明的优点在于:

  本发明以制革废水DOM荧光总强度去除率评价废水有机污染物去除率,其与废 水化学需氧量去除率、生化需氧量去除率和总有机碳去除率之间存在线性关系,通过 制革废水处理过程DOM的性质差异,有效揭示制革废水有机污染物的净化效果。本 发明基于荧光光谱分析,方法灵敏度高、重现性好、操作简便、分析费用低廉,弥补 了现有技术的不足,具有潜在的推广应用价值,可以为其他种类废水的相关研究提供 参考。

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