再生革废水处理工艺

发布时间:2018-4-19 16:12:21

  申请日2015.08.05

  公开(公告)日2015.12.02

  IPC分类号C02F9/04

  摘要

  本发明公开了一种再生革废水处理工艺,具体步骤如下:将废水排进格栅间,格栅间内的格栅对废旧皮革等杂质进行过滤;将格栅间内的废水排进沉降池内,在沉降池内加入十二水硫酸铝钾,沉淀过后废水分成上下两层;将沉降池内上层的废水排进过滤池内,在过滤池内设置单层板式微孔膜过滤器用于对废水中的悬浮物进一步的过滤;将进一步过滤后的废水排放到消毒池内,然后向消毒池内加入二氧化氯对废水进行消毒即可。本发明具有废水处理效果好等优点。

  权利要求书

  1.一种再生革废水处理工艺,其特征在于:具体步骤如下:

  步骤一:将废水排进格栅间,格栅间内的格栅对废旧皮革等杂质进行过滤;

  步骤二:将格栅间内的废水排进沉降池内,在沉降池内加入十二水硫酸铝钾,其中十二水硫酸铝钾的含量为0.6-0.8g/l,沉淀过后废水 分成上下两层;

  步骤三:将沉降池内上层的废水排进过滤池内,在过滤池内设置单层板式微孔膜过滤器用于对废水中的悬浮物进一步的过滤;

  步骤四:将进一步过滤后的废水排放到消毒池内,然后向消毒池内加入二氧化氯对废水进行消毒即可,其中二氧化氯的含量为0.2-0.5g/l。

  说明书

  一种再生革废水处理工艺

  技术领域

  本发明涉及一种再生革废水处理工艺,应用于再生革的生产加工领域。

  背景技术

  再生皮革兼有真皮和PU的特点,是现今非常通用的皮具面料,在再生革的生产加工过程中会产生大量的废水,目前,加工工厂会直接将废水排放出去,但是这样会造成很大的环境污染,因此,需要加工工厂对废水进行有效的处理。

  发明内容

  为解决现有技术方案的缺陷,本发明公开了一种废水处理效果好的再生革废水处理工艺。

  本发明公开了一种再生革废水处理工艺,具体步骤如下:

  步骤一:将废水排进格栅间,格栅间内的格栅对废旧皮革等杂质进行过滤;

  步骤二:将格栅间内的废水排进沉降池内,在沉降池内加入十二水硫酸铝钾,其中十二水硫酸铝钾的含量为0.6-0.8g/l,沉淀过后废水分成上下两层;

  步骤三:将沉降池内上层的废水排进过滤池内,在过滤池内设置单层板式微孔膜过滤器用于对废水中的悬浮物进一步的过滤;

  步骤四:将进一步过滤后的废水排放到消毒池内,然后向消毒池内加入二氧化氯对废水进行消毒即可,其中二氧化氯的含量为0.2-0.5g/l。

  通过采用上述步骤,本发明所述的再生革废水处理工艺工艺可有效对废水进行处理,处理效果比较好,而且工艺简单,便于实现,适宜于广泛推广应用,从而有效的避免了对环境的污染。

  具体实施方式

  本发明公开了一种再生革废水处理工艺,具体步骤如下:

  步骤一:将废水排进格栅间,格栅间内的格栅对废旧皮革等杂质进行过滤;

  步骤二:将格栅间内的废水排进沉降池内,在沉降池内加入十二水硫酸铝钾,其中十二水硫酸铝钾的含量为0.6-0.8g/l,沉淀过后废水分成上下两层;

  步骤三:将沉降池内上层的废水排进过滤池内,在过滤池内设置单层板式微孔膜过滤器用于对废水中的悬浮物进一步的过滤;

  步骤四:将进一步过滤后的废水排放到消毒池内,然后向消毒池内加入二氧化氯对废水进行消毒即可,其中二氧化氯的含量为0.2-0.5g/l。

  实施例1

  步骤一:将废水排进格栅间,格栅间内的格栅对废旧皮革等杂质进行过滤;

  步骤二:将格栅间内的废水排进沉降池内,在沉降池内加入十二水硫酸铝钾,其中十二水硫酸铝钾的含量为0.7g/l,沉淀过后废水分成上下两层;

  步骤三:将沉降池内上层的废水排进过滤池内,在过滤池内设置单层板式微孔膜过滤器用于对废水中的悬浮物进一步的过滤;

  步骤四:将进一步过滤后的废水排放到消毒池内,然后向消毒池内加入二氧化氯对废水进行消毒即可,其中二氧化氯的含量为0.3g/l。

  实施例2

  步骤一:将废水排进格栅间,格栅间内的格栅对废旧皮革等杂质进行过滤;

  步骤二:将格栅间内的废水排进沉降池内,在沉降池内加入十二水硫酸铝钾,其中十二水硫酸铝钾的含量为0.8g/l,沉淀过后废水分成上下两层;

  步骤三:将沉降池内上层的废水排进过滤池内,在过滤池内设置单层板式微孔膜过滤器用于对废水中的悬浮物进一步的过滤;

  步骤四:将进一步过滤后的废水排放到消毒池内,然后向消毒池内加入二氧化氯对废水进行消毒即可,其中二氧化氯的含量为0.5g/l。

  最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明而并非限制本发明所描述的技术方案;因此,尽管本说明书参照上述的各个实施例对本发明已进行了详细的说明,但是,本领域的普通技术人员应当理解,仍然可以对本发明进行修改或等同替换;而一切不脱离本发明的精神和范围的技术方案及其改进,其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。

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