申请日2015.06.10
公开(公告)日2015.09.23
IPC分类号B01D61/02; C02F1/44; B01D65/08
摘要
本发明公开了一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。该阻垢剂中包含羟基乙叉二膦酸30-40%、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40%、硼氢化钾10-30%、纯水20-40%。本发明的配方是一种针对印染废水膜处理系统的专用配方，针对性很强，其中，羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵具有阻无机垢和有机垢的作用，硼氢化钾具有抑制细菌、还原金属氧化物的作用，本发明将上述三种物质组合在一起，同时具备阻无机垢和还原金属氧化物的作用，特别适用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。
权利要求书
1.一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其特征在于，其中各组 分及质量百分含量如下：羟基乙叉二膦酸10-30%、十二烷基二甲基 苄基氯化铵20-40%、硼氢化钾10-30%、纯水20-40%。
2.如权利要求1所述的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其特征 在于，其中各组分及质量百分含量如下：羟基乙叉二膦酸20%、十二 烷基二甲基苄基氯化铵30%、硼氢化钾20%、纯水30%。
说明书
一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂
技术领域
本发明属于环保技术领域，涉及一种污水处理药剂，特别涉及一 种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。
背景技术
印染废水污染大，水量大，现已使用反渗透膜处理的越来越多。 但大多数反渗透膜阻垢剂主要针对钙镁垢、粘泥等污染，而印染废水 是高有机废水，同时由于生产助剂和废水处理添加剂导致大量金属氧 化性污染，因此现有常规阻垢剂不能满足印染废水膜处理系统维护的 需要。目前还缺乏一种专门针对印染废水膜处理系统，适用于印染废 水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好的阻垢剂。
发明内容
本发明的目的在于，克服现有技术的不足，提供一种专门针对印 染废水膜处理系统，阻垢效果良好的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。
本发明的目的是通过如下技术方案实现的：
一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其中各组分及质量百分含量 如下：羟基乙叉二膦酸10-30%、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40%、 硼氢化钾10-30%、纯水20-40%。
进一步的优化方案：上述印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂包括：羟 基乙叉二膦酸20%、十二烷基二甲基苄基氯化铵30%、硼氢化钾20%、 纯水30%。
上述印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂的制备方法：按上述配比将上 述各组分混合均匀即得。
本发明的有益效果：
本发明与现有技术相比，具有如下优点：
本发明的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，同时具备阻无机垢和 还原金属氧化物的作用，应用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理， 阻垢效果良好。
本发明的配方是一种针对印染废水膜处理系统的专用配方，针 对性很强，其中，羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵具有 阻无机垢和有机垢的作用，硼氢化钾(KBH4))具有抑制细菌、还原 金属氧化物的作用。本发明将羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基 氯化铵、硼氢化钾这三种物质组合在一起，充分发挥他们相互之间的 协同配合作用，使其同时具备阻无机垢和还原金属氧化物的作用，专 门针对印染废水中的大量金属氧化性污染和有机污染，特别适用于印 染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。